Персона:
Колодко, Добрыня Вячеславич

Организационные подразделения

Организационная единица

Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике

Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.

Фамилия

Колодко

Имя

Добрыня Вячеславич

Полная страница элемента

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 10 из 56

Только метаданные
Ion current optimization in a magnetron with tunable magnetic field configuration
(2021) Kaziev, A. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Sergeev, N. S.; Kharkov, M. M.; Leonova, K. A.; Казиев, Андрей Викторович; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сергеев, Никита Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович
© 2021 Institute of Physics Publishing. All rights reserved.The response of the ion current in the substrate region to the magnetic system configuration of a circular magnetron was studied during direct current sputtering of aluminum target. The unbalancing degree induced by changing of magnets’ positions was modelled with finite element methods. The ion saturation current in the substrate region showed more than twofold variation with unbalancing degree in the range 0.6–1.2. The dependence was non-monotonic, and the system was optimized to maximize the substrate ion current. The Langmuir probe diagnostics showed plasma density ~ 1016 m–3 in the optimized magnetic configuration.
Только метаданные
Estimation of MoS2 Coating Performance on Bronze and Steel in Vacuum at High Temperatures
(2022) Prozhega, M. V.; Reschikov, E. O.; Kharkov, M. M.; Rykunov, G. I.; Kaziev, A. V.; Kukushkina, M. S.; Kolodko, D. V.; Stepanova, T. V.; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Кукушкина, Маргарита Сергеевна; Колодко, Добрыня Вячеславич; Степанова, Татьяна Владимировна
© 2022 by the authors. Licensee MDPI, Basel, Switzerland.We compared two modes of magnetron sputter deposition of MoS2 on substrates made of steel AISI 316L and bronze CuAl9NiFe4Mn1 with different initial roughness Ra 0.05–2.32 µm. The deposition was carried out at a bias voltage of −20 and +100 V, and the deposition rate of these modes differed by 30%. Measurements of the friction coefficient and lifetime tests were made in accordance with ASTM G133. Measurements of the friction coefficient and lifetime tests in vacuum at load 7H, temperature of samples 250◦C, and pressure in the chamber <10−6 Pa were carried out according to ASTM G133. The adhesive strength, the chemical composition of the coatings before and after tribological tests, the degree of crystallinity of the coatings, and the distance between the planes were evaluated. Mechanical and structural properties of coatings are discussed concerning the deposition mode parameters. The average coefficient of friction of the MoS2 coatings in steady-state friction did not exceed 0.051 for all samples. The influence of the sample pretreatment method on the growth of molybdenum disulfide crystals was revealed.
Только метаданные
Flux of High-Energy Positive Oxygen Ions from Plasma to a Substrate in a Pulsed Magnetron Discharge with a Hot Target
(2023) Kolodko, D. V.; Kaziev, A. V.; Ageichenkov, D. G.; Lisenkov, V. Y.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Агейченков, Дмитрий Григорьевич
Открытый доступ
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКОВ ИОНОВ ТВЕРДОГО ТЕЛА
(Общество с ограниченной ответственностью "Пинч", 2023) Казиев, А. А.; Тумаркин, А. В.; Колодко, Д. В.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр Владимирович
Изобретение относится к области вакуумной и плазменной техники и может быть применено для осуществления процессов ионного травления материалов, имплантации ионов металлов и полупроводников, осаждения тонкопленочных покрытий. Технический результат - повышение содержания в плазме ионов твердого тела до 90-98%. Способ предусматривает формирование плазмы импульсного магнетронного разряда высокой мощности на предварительно разогретой мишени. Импульсный разряд с параметрами - напряжение до 2 кВ, ток 10-500 А, длительность 10-1000 мкс, частота повторения до 1 кГц - создается в предварительно ионизированном объеме над поверхностью нагретой мишени, отделенной теплоизолирующей подставкой с высокой электропроводностью. Нагрев мишени проводится в магнетронном разряде постоянного тока в аргоне с плотностью мощности выше 100 Вт/см2 до температуры, при которой давление насыщенных паров материала становится порядка или выше 0,5 Па, после чего подача аргона отключается, и разряд горит исключительно в парах материала мишени. Сформированный в этой среде импульсный магнетронный разряд характеризуется степенью ионизации плазмы выше 90% для широкого спектра материалов. 1 ил.
Только метаданные
Effect of substrate biasing on deuterium retention in deuterium-tungsten co-deposited films at 380 K
(2026) Krat, S.; Kolodko, D. V.; Sorokin, I.; Efimov, N.; Prishvitsyn, A.; Lomonosov, G. S.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A.; Kaziev, A. V.; Gasparyan, Y.; Pisarev, A.; Крат, Степан Андреевич; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович; Ефимов, Никита Евгеньевич; Пришвицын, Александр Сергеевич; Ломоносов, Глеб Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Писарев, Александр Александрович
Только метаданные
Preparation of Silicon Oxide Films by a Hot-Target Impulse Magnetron Deposition in a Reactive Mixture
(2023) Lisenkov, V. Y.; Kharkov, M. M.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A. V.; Kaziev, A. V.; Харьков, Максим Михайлович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович
Открытый доступ
Current-voltage characteristics of an impulse magnetron discharge in target material vapor
(2020) Kaziev, A. V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Khomyakov, A. Y.; Ageychenkov, D. G.; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич
© Published under licence by IOP Publishing Ltd.The magnetron discharge with hot (uncooled) target in an impulse mode has been experimentally investigated. The I-V characteristics have been measured depending on the magnetic field strength for three target materials: copper, chromium, and silicon. For melted copper and hot chromium targets, stable gasless (no argon) operation of the magnetron has been demonstrated with maximum impulse power densities about 2.5 kW/cm2 (averaged over the racetrack area). For silicon target, maximum impulse power density was 1.5 kW/cm2 at low argon pressure (0.1 Pa). The magnetic field dependences of discharge parameters have shown the associated changes in differential plasma impedance.
Только метаданные
Etching of "Microwire-on-Insulator"-Type Structures
(2022) Shustin, E. G.; Kolodko, D. V.; Luzanov, V. A.; Mirgorodskaya, E. N.; Sorokin, I. A.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович
Только метаданные
MAGNETRON SPUTTER DEPOSITION OF TUNGSTEN COATINGS IN DEUTERIUM–HELIUM MIXTURES
(2023) Kharkov, M.; Lomonosov, G. S.; Kolodko, D. V.; Kukushkina, M. S.; Kaziev, A. V.; Tumarkin, A. V.; Ogorodnikova, O. V.; Харьков, Максим Михайлович; Ломоносов, Глеб Сергеевич; Колодко, Добрыня Вячеславич; Кукушкина, Маргарита Сергеевна; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр Владимирович; Огородникова, Ольга Вячеславовна
Открытый доступ
АНАЛИЗ ПАРАМЕТРОВ ПЛАЗМЫ ИМПУЛЬСНОГО МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА В СРЕДЕ СМЕСЕЙ He/D2
(НИЯУ МИФИ, 2024) НОВИКОВ, М. С.; ХАРЬКОВ, М. М.; ЛОМОНОСОВ, Г. С.; КОЛОДКО, Д. В.; КАЗИЕВ, А. В.; ТУМАРКИН, А. В.; ОГОРОДНИКОВА, О. В.; Огородникова, Ольга Вячеславовна; Колодко, Добрыня Вячеславич; Ломоносов, Глеб Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр Владимирович
Измерены концентрация, температура и плавающий потенциал плазмы импульсного магнетронного разряда с вольфрамовой мишенью в смесях He/D2 и He/H2 зондовым методом в зависимости от плотности мощности разряда. Зондовые измерения возможно проводить для импульсов длительностью более 100 мкс. Плотность плазмы составила ~1010 - 1011 см–3 при температуре 3–4 эВ в зависимости от плотности мощности в разряде.