Репозиторий НИЯУ МИФИ

Репозиторий предоставляет доступ к научным публикациям, монографиям, учебным изданиям и другим материалам авторов Национального исследовательского ядерного университета МИФИ:

  • Материалы конференций, статьи из научных журналов, авторефераты диссертаций.
  • Монографии, патенты, учебные издания.
  • Публикации о НИЯУ МИФИ в СМИ и др.

Сопровождение репозитория ведёт центр информационно-библиотечного обеспечения учебно-научной деятельности:

  • library@mephi.ru
  • http://library.mephi.ru
  • НИЯУ МИФИ, 115409, Москва, Каширское ш., 31
Site : openrepository.mephi.ru
 

Разделы

Выберите раздел, чтобы просмотреть его коллекции.

Последние материалы

Уменьшенное изображение
Публикация
Открытый доступ
ЗАВИСИМОСТЬ СОДЕРЖАНИЯ ДЕЙТЕРИЯ В СООСАЖДЁННЫХ ЛИТИЕВЫХ СЛОЯХ ОТ ПОТЕНЦИАЛА СМЕЩЕНИЯ ПОДЛОЖКИ ВО ВРЕМЯ ОСАЖДЕНИЯ
(НИЯУ МИФИ, 2026) КРАТ, С. А.; БУТНЯКОВ, Д. А.; ПРИШВИЦЫН, А. С.; ЕФИМОВ, Н. Е.; ГАСПАРЯН, Ю. М.; Крат, Степан Андреевич; Ефимов, Никита Евгеньевич; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Пришвицын, Александр Сергеевич; Бутняков, Даниил Алексеевич
Накопление водорода в осаждённых из плазмы слоях лития – потенциальная угроза для реализации концепции жидкометаллических обращённых к плазме элементов в термоядерных установках, так как в результате такого накопления может происходить выпадение твёрдых фаз, например гидридов, в жидком литии, а также будет осуществлять накопление радиоактивного трития.
Уменьшенное изображение
Публикация
Открытый доступ
ОБРАЗОВАНИЕ ПЛАЗМЫ ПРИ ЭЛЕКТРИЧЕСКОМ ВЗРЫВЕ НАНОВОЛОКОН ВОЛЬФРАМА
(НИЯУ МИФИ, 2026) Цвентух, М. М.; Кулагин, В. В.; Кулагин, Виктор Владимирович
Взаимодействие плазмы с поверхностью может приводить к росту наноструктуры волокон вольфрама, содержащих большое количество гелия в виде нанопузырей [1-4]. Развитая наноструктура на поверхности, взаимодействующей с плазмой, облегчает электронную эмиссию с поверхности и электрический взрыв протекающим током крупных – микронных участков поверхности. Импульсно-периодическое зажигание таких взрывов обеспечивает протекание тока самостоятельного (в т.ч. униполярного) дугового разряда.
Уменьшенное изображение
Публикация
Открытый доступ
СОЗДАНИЕ ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ ПОТОКОВ С ПРИМЕСЬЮ Li ДЛЯ ЭРОЗИОННЫХ ИСПЫТАНИЙ НА УСТАНОВКЕ ПР-2
(НИЯУ МИФИ, 2026) СОРОКИН, И. А.; СЕЛИВАНОВ, Р. А.; КРАТ, С. А.; Крат, Степан Андреевич; Сорокин, Иван Александрович; Селиванов, Ростислав Алексеевич
Формирование ионно-плазменных потоков из газового разряда с контролируемым количеством примеси лития (ионов и атомарного) представляется важной задачей для проведения эрозионных испытаний конструкционных материалов термоядерных установок с частично или полностью жидкометаллической стенкой. В докладе приводятся результаты глубокой модернизации линейной плазменной установки ПР-2 [1-3] для проведения подобных испытаний на примере H2+Li плазмы, принципиальная схема которой представлена на рисунке 1.
Уменьшенное изображение
Публикация
Открытый доступ
СТАБИЛЬНОСТЬ ПЛЕНОК БОРА ПРИ ТЕРМИЧЕСКОМ НАГРЕВЕ И ИХ ВЛИЯНИЕ НА ЗАХВАТ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ
(НИЯУ МИФИ, 2026) УМЕРЕНКОВА, А. С.; ГАСПАРЯН, Ю. М.; ЕФИМОВ, В. С.; ОСТОЙИЧ, Н.; СОЛАРЕВИЧ, Т.; ЛУЗАНОВ, В. А.; Ефимов, Виталий Сергеевич; Остойич, Никола; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Соларевич, Теодора; Умеренкова, Анастасия Сергеевна
В связи с заменой материала первой стенки в ИТЭР на вольфрам, предполагается регулярное проведение боронизации: нанесение борсодержащих покрытий на обращенные к плазме элементы [1]. Боронизация успешно применяется в термоядерных установках, и показала положительное влияние на основные параметры разряда [2,3,4]. Однако процессы взаимодействия водородной плазмы с пленками бора на вольфраме остаются недостаточно изученными. Одним из наиболее критичных вопросов является влияние пленок бора на накопление изотопов водорода в вольфраме.
Уменьшенное изображение
Публикация
Открытый доступ
ВЛИЯНИЕ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ НА СМАЧИВАЕМОСТЬ МОЛИБДЕНА ЛИТИЕМ
(НИЯУ МИФИ, 2026) ТАРАСЮК, Г. М.; СУВОРОВ, Н. А.; СТЕПАНОВ, В. А.; ПИСАРЕВ, А. А.; Степанов, Владимир Алексеевич; Писарев, Александр Александрович; Тарасюк, Григорий Михайлович
Одна из концепций диверторов и лимитеров токамака основана на использовании тонкого текущего по поверхности слоя жидкого лития, как материала, обращенного к плазме. Для обеспечения полного покрытия поверхности литием без возникновения «сухих» зон необходимо хорошее смачивание поверхности литием. Плазменная обработка, которая широко применяется в промышленности для улучшения смачиваемости материалов и изделий из них, могла бы также улучшить смачиваемость металлов и жидким литием.