Publication:
Modeling of cracking behavior of CrAlN coatings on silicon during micro- and nanoindentation

Дата
2024
Авторы
Kharkov, M. M.
Tumarkin, A. V.
Prosolov, A. A.
Kabanov, G. A.
Kolodko, D. V.
Tarasov, B. A.
Irmagambetova, S. M.
Kaziev, A. V.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Организационная единица
Другие подразделения НИЯУ МИФИ
Структурные подразделения НИЯУ МИФИ, не включенные в состав институтов и факультетов.
Выпуск журнала
Аннотация
Описание
Ключевые слова
Nanoindentation , Coatings , Nanostructured Materials
Цитирование
Modeling of cracking behavior of CrAlN coatings on silicon during micro- and nanoindentation / Kharkov, M.M. [et al.] // Materials Chemistry and Physics. - 2024. - 322. - 10.1016/j.matchemphys.2024.129597
Коллекции