Персона:
Тумаркин, Александр Владимирович

Организационные подразделения

Организационная единица

Институт лазерных и плазменных технологий

Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.

Фамилия

Тумаркин

Имя

Александр Владимирович

Полная страница элемента

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 10 из 26

Только метаданные
Diagnostics of ion fluxes in low-temperature laboratory and industrial plasmas
(2019) Kolodko, D, V.; Ageychenkov, D. G.; Kaziev, A, V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A. V.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр Владимирович
We studied the ion fluxes on metal surfaces in the inductively coupled plasma reactor as a test facility. The gas mixture of argon and nitrogen was used, with 0.44 Pa total pressure. The radiofrequency power was varied in a wide range (250-2000 W). The ion fluxes were sampled in situ using a specially designed electrostatic extractor and then analyzed with a custom-built magnetic sector mass-separator. The gas composition was independently monitored by the quadrupole analyzer. All measurements were accompanied by optical emission spectroscopy (OES). The correlations of measured optical and corpuscular data are discussed. The conversion function linking optical and corpuscular intensities for Ar/N-2 radiofrequency discharge was determined.
Открытый доступ
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКОВ ИОНОВ ТВЕРДОГО ТЕЛА
(Общество с ограниченной ответственностью "Пинч", 2023) Казиев, А. А.; Тумаркин, А. В.; Колодко, Д. В.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр Владимирович
Изобретение относится к области вакуумной и плазменной техники и может быть применено для осуществления процессов ионного травления материалов, имплантации ионов металлов и полупроводников, осаждения тонкопленочных покрытий. Технический результат - повышение содержания в плазме ионов твердого тела до 90-98%. Способ предусматривает формирование плазмы импульсного магнетронного разряда высокой мощности на предварительно разогретой мишени. Импульсный разряд с параметрами - напряжение до 2 кВ, ток 10-500 А, длительность 10-1000 мкс, частота повторения до 1 кГц - создается в предварительно ионизированном объеме над поверхностью нагретой мишени, отделенной теплоизолирующей подставкой с высокой электропроводностью. Нагрев мишени проводится в магнетронном разряде постоянного тока в аргоне с плотностью мощности выше 100 Вт/см2 до температуры, при которой давление насыщенных паров материала становится порядка или выше 0,5 Па, после чего подача аргона отключается, и разряд горит исключительно в парах материала мишени. Сформированный в этой среде импульсный магнетронный разряд характеризуется степенью ионизации плазмы выше 90% для широкого спектра материалов. 1 ил.
Открытый доступ
PLASMA NITRIDING OF TITANIUM ALLOY TI5A14V2MO
(НИЯУ МИФИ, 2015) Borisyuk, Yu. V.; Berdnikova, M. A.; Tumarkin, A. V.; Khodachenko, G. V.; Pisarev, A. A.; Oreshnikova N. M.; Писарев, Александр Александрович; Тумаркин, Александр Владимирович
However, low hardness and low wear resistance of these materials is one of the reasons limiting their wider use. Nitriding of titanium alloys with the purpose of improvement of their wear resistance is an important task. Many works were devoted to nitriding of titanium and low alloyed titanium [1-4], but not much is known about nitriding of highly alloyed titanium, which is a promising material for many applications The superalloy Ti5Al4V2Mo has high strength and corrosion resistance, and it is widely used in industry at medium and high temperatures. Nevertheless, it was not studied in terms of plasma nitriding. This work is devoted to investigation of nitriding of Ti5Al4V2Mo in argon-nitrogen plasma of abnormal glow discharge.
Только метаданные
Direct ion content measurements in a non-sputtering magnetron discharge
(2019) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M. M.; Stepanova, T. V.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович; Степанова, Татьяна Владимировна
In present contribution we report the first direct measurements of ion fluxes in a nonsputtering magnetron discharge (NSMD) with Al cathode in Ar/O-2 mixtures. The diagnostic unit comprising three-electrode electrostatic lens ion extractor, magnetic sector mass-analyzer, and a vacuum electron multiplier was calibrated and then used to record the time-resolved ion counts of Al+ and Ar+ both in NSMD and arc regimes. The results clearly indicate that in NSMD the dominant species are Ar ions while Al ion signal is lower than the sensitivity limit due to noise level, in contrast to the arc discharge. The capabilities of the diagnostics setup and its sensitivity limits are discussed.
Только метаданные
Langmuir probe diagnostics of an impulse magnetron discharge with hot Cr target
(2019) Tumarkin, A. V.; Kaziev, A, V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Kolodko, D. V.; Khomyakov, A. Yu.; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Колодко, Добрыня Вячеславич
Impulse magnetron discharge (pulse duration 20 ms) with uncooled Cr target has been investigated with a specially designed Langmuir probe setup in a wide range of parameters (magnetic field and discharge power). The spatial distributions of electron temperature and plasma density have been measured in the gasless self-sputtering mode. It has been shown that in the gasless high-power pulsed discharge with hot Cr target, plasma density is as high as 5 x 10(18) M-3 at a pulsed power density of 1430 W/cm(2), while the electron temperature drops to values below 1 eV.
Открытый доступ
Metal-ion Penning source for thin films deposition
(НИЯУ МИФИ, 2015) Колодко, Д. В.; Синельников, Д. Н.; Казиев, А. В.; Тумаркин, А. В.; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Синельников, Дмитрий Николаевич
Recently, research areas dealing with coating processes in a magnetron discharge with melted cathode have experienced intensive development [1–3]. In this mode magnetron discharge is operated in the target's vapour and the plasma in this case is purely metallic. Despite the main contribution to the deposition process is introduced by the vaporized (neutral) component, the coating properties are greatly affected by the ion flux [3]. So, it is important to study the process of deposition by ion flux solely.
Только метаданные
Comparison of thermal properties of a hot target magnetron operated in DC and long HIPIMS modes
(2021) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A, V.; Kharkov, M. M.; Lisenkov, V. Y.; Sergeev, N. S.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович; Сергеев, Никита Сергеевич
© 2021 Elsevier B.V.Thermal properties of the magnetron discharge with uncooled copper and chromium targets were studied experimentally and theoretically for DC and long HiPIMS (L-HiPIMS) operation modes. A set of thermal fluxes was considered to build a numerical model of the hot target exposed to DC and high-power pulsed plasma. The modeling results were tested in the experiments. The temperature of targets was measured directly in course of magnetron discharge operation with an elaborated contact thermocouple method. The measurements were made in two modes. At first the temporal evolution of temperature was recorded for a fixed applied discharge power. The results were found to well agree with temperature values expected from calculations. At 2 kW power, it takes ~50 s to reach the melting point of copper. The steady-state temperature values were also measured for a number of discharge power levels. The obtained dependence clearly demonstrated that the main mechanisms of the target heat balance at high temperatures are surface radiation and heat transfer due to thermal conductivity of the heat insulation supports between the target and water-cooled cathode. The parameters of DC hot target magnetron were compared to the high-power pulsed regime with the pulse-on time 20 ms. A promising method of a hot target magnetron discharge operation was considered that involves applying long (>20 ms) high-power pulses to the target pre-heated in the DC mode during the pulse-off period.
Только метаданные
Ion current optimization in a magnetron with tunable magnetic field configuration
(2021) Kaziev, A. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Sergeev, N. S.; Kharkov, M. M.; Leonova, K. A.; Казиев, Андрей Викторович; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сергеев, Никита Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович
© 2021 Institute of Physics Publishing. All rights reserved.The response of the ion current in the substrate region to the magnetic system configuration of a circular magnetron was studied during direct current sputtering of aluminum target. The unbalancing degree induced by changing of magnets’ positions was modelled with finite element methods. The ion saturation current in the substrate region showed more than twofold variation with unbalancing degree in the range 0.6–1.2. The dependence was non-monotonic, and the system was optimized to maximize the substrate ion current. The Langmuir probe diagnostics showed plasma density ~ 1016 m–3 in the optimized magnetic configuration.
Открытый доступ
Импульсный магнетронный разряд с горячей мишенью
(НИЯУ МИФИ, 2022) Тумаркин, А. В.; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, А. В.
Только метаданные
SIMULATION OF TARGET SURFACE CHEMICAL STATE IN A HOT-TARGET HIPIMS PROCESS МОДЕЛИРОВАНИЕ ХИМИЧЕСКОГО СОСТОЯНИЯ ПОВЕРХНОСТИ МИШЕНИ В СИМР С ГОРЯЧЕИ МИШЕНЬЮ
(2023) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M.; Lisenkov, V. Y.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович