Персона: Тумаркин, Александр Владимирович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Тумаркин
Имя
Александр Владимирович
Имя
11 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 10 из 11
- ПубликацияОткрытый доступИмпульсный магнетронный разряд с горячей мишенью(НИЯУ МИФИ, 2022) Тумаркин, А. В.; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, А. В.
- ПубликацияТолько метаданныеDiagnostics of ion fluxes in low-temperature laboratory and industrial plasmas(2019) Kolodko, D, V.; Ageychenkov, D. G.; Kaziev, A, V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A. V.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр ВладимировичWe studied the ion fluxes on metal surfaces in the inductively coupled plasma reactor as a test facility. The gas mixture of argon and nitrogen was used, with 0.44 Pa total pressure. The radiofrequency power was varied in a wide range (250-2000 W). The ion fluxes were sampled in situ using a specially designed electrostatic extractor and then analyzed with a custom-built magnetic sector mass-separator. The gas composition was independently monitored by the quadrupole analyzer. All measurements were accompanied by optical emission spectroscopy (OES). The correlations of measured optical and corpuscular data are discussed. The conversion function linking optical and corpuscular intensities for Ar/N-2 radiofrequency discharge was determined.
- ПубликацияТолько метаданныеDirect ion content measurements in a non-sputtering magnetron discharge(2019) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M. M.; Stepanova, T. V.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович; Степанова, Татьяна ВладимировнаIn present contribution we report the first direct measurements of ion fluxes in a nonsputtering magnetron discharge (NSMD) with Al cathode in Ar/O-2 mixtures. The diagnostic unit comprising three-electrode electrostatic lens ion extractor, magnetic sector mass-analyzer, and a vacuum electron multiplier was calibrated and then used to record the time-resolved ion counts of Al+ and Ar+ both in NSMD and arc regimes. The results clearly indicate that in NSMD the dominant species are Ar ions while Al ion signal is lower than the sensitivity limit due to noise level, in contrast to the arc discharge. The capabilities of the diagnostics setup and its sensitivity limits are discussed.
- ПубликацияТолько метаданныеLangmuir probe diagnostics of an impulse magnetron discharge with hot Cr target(2019) Tumarkin, A. V.; Kaziev, A, V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Kolodko, D. V.; Khomyakov, A. Yu.; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Колодко, Добрыня ВячеславичImpulse magnetron discharge (pulse duration 20 ms) with uncooled Cr target has been investigated with a specially designed Langmuir probe setup in a wide range of parameters (magnetic field and discharge power). The spatial distributions of electron temperature and plasma density have been measured in the gasless self-sputtering mode. It has been shown that in the gasless high-power pulsed discharge with hot Cr target, plasma density is as high as 5 x 10(18) M-3 at a pulsed power density of 1430 W/cm(2), while the electron temperature drops to values below 1 eV.
- ПубликацияОткрытый доступCurrent-voltage characteristics of an impulse magnetron discharge in target material vapor(2020) Kaziev, A. V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Khomyakov, A. Y.; Ageychenkov, D. G.; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич© Published under licence by IOP Publishing Ltd.The magnetron discharge with hot (uncooled) target in an impulse mode has been experimentally investigated. The I-V characteristics have been measured depending on the magnetic field strength for three target materials: copper, chromium, and silicon. For melted copper and hot chromium targets, stable gasless (no argon) operation of the magnetron has been demonstrated with maximum impulse power densities about 2.5 kW/cm2 (averaged over the racetrack area). For silicon target, maximum impulse power density was 1.5 kW/cm2 at low argon pressure (0.1 Pa). The magnetic field dependences of discharge parameters have shown the associated changes in differential plasma impedance.
- ПубликацияТолько метаданныеEffects of Ar ion irradiation in an ICP discharge on the titanium surface topology(2020) Chernyh, N. A.; Kharkov, M. M.; Kaziev, A. V.; Danilyuk, D. V.; Kukushkina, M. S.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Кукушкина, Маргарита Сергеевна; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич© 2020 Elsevier B.V.VT1-0 (Russian equivalent of Grade 2) titanium surfaces were modified under argon ion bombardment from the low-pressure inductively coupled plasma (ICP). The ion processing allowed us to prepare various types of structures on titanium with controlled characteristic dimensions at nano- and miscroscale (from tens of nm to 3 µm). The hillock, porous, conical, wall/cell structures as well as their combinations have been obtained. The topology type and the characteristic dimensions of surface features depend on the current density js, Ar ion energy Ei, irradiation fluence Φ (or processing time t), and the sample temperature T during the treatment. The microstructures appear on the surface provided the titanium sample is irradiated at temperatures below 900 °C. The sample temperature was determined by both the average current density (jsav from 0.2 to 20 mA/cm2) and the ion energy (Ei from 150 to 1500 eV). A certain fluence is required for uniform surface coverage with microstructures. We suppose that the titanium surface texturing is a result of a complex interplay of the following mechanisms: sputtering, re-sputtering (shadowing), crystal lattice transformation, accumulation and annihilation of defects, and hypothetically, argon retention.
- ПубликацияТолько метаданныеCharacterization of millisecond-scale high-power impulse magnetron discharge in helium(2020) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Kharkov, M. M.; Rykunov, G. I.; Sergeev, N. S.; Tumarkin, A. V.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Харьков, Максим Михайлович; Сергеев, Никита Сергеевич; Тумаркин, Александр Владимирович© 2021 IEEEImpulse magnetron discharges with millisecond-scale pulses-extended duration modes of technological high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)-have promising applications in pulsed plasma facilities of different kinds due to high ionization degree (up to 90%), suitable duration, and scalable hardware design. Depending on operating conditions, at the same power level, two distinct diffuse regimes can be distinguished: the one with intense target sputtering-long HiPIMS (L-HiPIMS),-and the non-sputtering low-voltage one (non-sputtering magnetron discharge). The majority of existing studies of these discharge forms were made for argon working gas. For a number of prospective high-power pulsed plasma applications (e. g. pulsed plasma accelerators and thrusters), however, the option of using light gases is preferable. Here, the operation of a millisecond-scale impulse magnetron discharge (L-HiPIMS) in helium has been examined. The plasma parameters (electron density, electron temperature) were measured in a time-resolved fashion with a Langmuir probe. The electrical measurements were accompanied with optical emission spectroscopy. The use of the long pulsed modes enables achieving high plasma density and accelerating the ion flux with a peak energy of ~ 10 eV.
- ПубликацияОткрытый доступСПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКОВ ИОНОВ ТВЕРДОГО ТЕЛА(Общество с ограниченной ответственностью "Пинч", 2023) Казиев, А. А.; Тумаркин, А. В.; Колодко, Д. В.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр ВладимировичИзобретение относится к области вакуумной и плазменной техники и может быть применено для осуществления процессов ионного травления материалов, имплантации ионов металлов и полупроводников, осаждения тонкопленочных покрытий. Технический результат - повышение содержания в плазме ионов твердого тела до 90-98%. Способ предусматривает формирование плазмы импульсного магнетронного разряда высокой мощности на предварительно разогретой мишени. Импульсный разряд с параметрами - напряжение до 2 кВ, ток 10-500 А, длительность 10-1000 мкс, частота повторения до 1 кГц - создается в предварительно ионизированном объеме над поверхностью нагретой мишени, отделенной теплоизолирующей подставкой с высокой электропроводностью. Нагрев мишени проводится в магнетронном разряде постоянного тока в аргоне с плотностью мощности выше 100 Вт/см2 до температуры, при которой давление насыщенных паров материала становится порядка или выше 0,5 Па, после чего подача аргона отключается, и разряд горит исключительно в парах материала мишени. Сформированный в этой среде импульсный магнетронный разряд характеризуется степенью ионизации плазмы выше 90% для широкого спектра материалов. 1 ил.
- ПубликацияОткрытый доступPLASMA NITRIDING OF TITANIUM ALLOY TI5A14V2MO(НИЯУ МИФИ, 2015) Borisyuk, Yu. V.; Berdnikova, M. A.; Tumarkin, A. V.; Khodachenko, G. V.; Pisarev, A. A.; Oreshnikova N. M.; Писарев, Александр Александрович; Тумаркин, Александр ВладимировичHowever, low hardness and low wear resistance of these materials is one of the reasons limiting their wider use. Nitriding of titanium alloys with the purpose of improvement of their wear resistance is an important task. Many works were devoted to nitriding of titanium and low alloyed titanium [1-4], but not much is known about nitriding of highly alloyed titanium, which is a promising material for many applications The superalloy Ti5Al4V2Mo has high strength and corrosion resistance, and it is widely used in industry at medium and high temperatures. Nevertheless, it was not studied in terms of plasma nitriding. This work is devoted to investigation of nitriding of Ti5Al4V2Mo in argon-nitrogen plasma of abnormal glow discharge.
- ПубликацияОткрытый доступMetal-ion Penning source for thin films deposition(НИЯУ МИФИ, 2015) Колодко, Д. В.; Синельников, Д. Н.; Казиев, А. В.; Тумаркин, А. В.; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Синельников, Дмитрий НиколаевичRecently, research areas dealing with coating processes in a magnetron discharge with melted cathode have experienced intensive development [1–3]. In this mode magnetron discharge is operated in the target's vapour and the plasma in this case is purely metallic. Despite the main contribution to the deposition process is introduced by the vaporized (neutral) component, the coating properties are greatly affected by the ion flux [3]. So, it is important to study the process of deposition by ion flux solely.