Персона: Тумаркин, Александр Владимирович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Тумаркин
Имя
Александр Владимирович
Имя
32 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 10 из 32
- ПубликацияТолько метаданныеPreparation of Silicon Oxide Films by a Hot-Target Impulse Magnetron Deposition in a Reactive Mixture(2023) Lisenkov, V. Y.; Kharkov, M. M.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A. V.; Kaziev, A. V.; Харьков, Максим Михайлович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович
- ПубликацияОткрытый доступСПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКОВ ИОНОВ ТВЕРДОГО ТЕЛА(Общество с ограниченной ответственностью "Пинч", 2023) Казиев, А. А.; Тумаркин, А. В.; Колодко, Д. В.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр ВладимировичИзобретение относится к области вакуумной и плазменной техники и может быть применено для осуществления процессов ионного травления материалов, имплантации ионов металлов и полупроводников, осаждения тонкопленочных покрытий. Технический результат - повышение содержания в плазме ионов твердого тела до 90-98%. Способ предусматривает формирование плазмы импульсного магнетронного разряда высокой мощности на предварительно разогретой мишени. Импульсный разряд с параметрами - напряжение до 2 кВ, ток 10-500 А, длительность 10-1000 мкс, частота повторения до 1 кГц - создается в предварительно ионизированном объеме над поверхностью нагретой мишени, отделенной теплоизолирующей подставкой с высокой электропроводностью. Нагрев мишени проводится в магнетронном разряде постоянного тока в аргоне с плотностью мощности выше 100 Вт/см2 до температуры, при которой давление насыщенных паров материала становится порядка или выше 0,5 Па, после чего подача аргона отключается, и разряд горит исключительно в парах материала мишени. Сформированный в этой среде импульсный магнетронный разряд характеризуется степенью ионизации плазмы выше 90% для широкого спектра материалов. 1 ил.
- ПубликацияТолько метаданныеEffect of substrate biasing on deuterium retention in deuterium-tungsten co-deposited films at 380 K(2026) Krat, S.; Kolodko, D. V.; Sorokin, I.; Efimov, N.; Prishvitsyn, A.; Lomonosov, G. S.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A.; Kaziev, A. V.; Gasparyan, Y.; Pisarev, A.; Крат, Степан Андреевич; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович; Ефимов, Никита Евгеньевич; Пришвицын, Александр Сергеевич; Ломоносов, Глеб Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Писарев, Александр Александрович
- ПубликацияТолько метаданныеIon current optimization in a magnetron with tunable magnetic field configuration(2021) Kaziev, A. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Sergeev, N. S.; Kharkov, M. M.; Leonova, K. A.; Казиев, Андрей Викторович; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сергеев, Никита Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович© 2021 Institute of Physics Publishing. All rights reserved.The response of the ion current in the substrate region to the magnetic system configuration of a circular magnetron was studied during direct current sputtering of aluminum target. The unbalancing degree induced by changing of magnets’ positions was modelled with finite element methods. The ion saturation current in the substrate region showed more than twofold variation with unbalancing degree in the range 0.6–1.2. The dependence was non-monotonic, and the system was optimized to maximize the substrate ion current. The Langmuir probe diagnostics showed plasma density ~ 1016 m–3 in the optimized magnetic configuration.
- ПубликацияТолько метаданныеSIMULATION OF TARGET SURFACE CHEMICAL STATE IN A HOT-TARGET HIPIMS PROCESS МОДЕЛИРОВАНИЕ ХИМИЧЕСКОГО СОСТОЯНИЯ ПОВЕРХНОСТИ МИШЕНИ В СИМР С ГОРЯЧЕИ МИШЕНЬЮ(2023) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M.; Lisenkov, V. Y.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович
- ПубликацияТолько метаданныеDiagnostics of ion fluxes in low-temperature laboratory and industrial plasmas(2019) Kolodko, D, V.; Ageychenkov, D. G.; Kaziev, A, V.; Leonova, K. A.; Kharkov, M. M.; Tumarkin, A. V.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Тумаркин, Александр ВладимировичWe studied the ion fluxes on metal surfaces in the inductively coupled plasma reactor as a test facility. The gas mixture of argon and nitrogen was used, with 0.44 Pa total pressure. The radiofrequency power was varied in a wide range (250-2000 W). The ion fluxes were sampled in situ using a specially designed electrostatic extractor and then analyzed with a custom-built magnetic sector mass-separator. The gas composition was independently monitored by the quadrupole analyzer. All measurements were accompanied by optical emission spectroscopy (OES). The correlations of measured optical and corpuscular data are discussed. The conversion function linking optical and corpuscular intensities for Ar/N-2 radiofrequency discharge was determined.
- ПубликацияОткрытый доступMetal-ion Penning source for thin films deposition(НИЯУ МИФИ, 2015) Колодко, Д. В.; Синельников, Д. Н.; Казиев, А. В.; Тумаркин, А. В.; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Синельников, Дмитрий НиколаевичRecently, research areas dealing with coating processes in a magnetron discharge with melted cathode have experienced intensive development [1–3]. In this mode magnetron discharge is operated in the target's vapour and the plasma in this case is purely metallic. Despite the main contribution to the deposition process is introduced by the vaporized (neutral) component, the coating properties are greatly affected by the ion flux [3]. So, it is important to study the process of deposition by ion flux solely.
- ПубликацияОткрытый доступДИАГНОСТИКА СПОНТАННЫХ ДУГОВЫХ РАЗРЯДОВ НА ВОЛЬФРАМОВЫХ НАНОСТРУКТУРАХ ПРИ ОБЛУЧЕНИИ В ГЕЛИЕВОЙ ПЛАЗМЕ(НИЯУ МИФИ, 2026) ДОБРОВОЛЬСКИЙ, Г. И.; КОЛОДКО, Д. В.; КАЗИЕВ, А. В.; ТУМАРКИН, А. В.; ХАРЬКОВ, М. М.; СМИРНОВА, К. В.; ЦВЕНТУХ, М. М.; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим МихайловичВ термоядерных установках вольфрамовые элементы, обращенные к плазме, склонны к образованию наноструктурированных слоев из-за облучения их поверхности интенсивными потоками ионов гелия. Известно, что эти нановолокна вольфрама или вольфрамовый пух способствуют инициированию электрических разрядов на первой стенке.
- ПубликацияОткрытый доступАНАЛИЗ ПАРАМЕТРОВ ПЛАЗМЫ ИМПУЛЬСНОГО МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА В СРЕДЕ СМЕСЕЙ He/D2(НИЯУ МИФИ, 2024) НОВИКОВ, М. С.; ХАРЬКОВ, М. М.; ЛОМОНОСОВ, Г. С.; КОЛОДКО, Д. В.; КАЗИЕВ, А. В.; ТУМАРКИН, А. В.; ОГОРОДНИКОВА, О. В.; Огородникова, Ольга Вячеславовна; Колодко, Добрыня Вячеславич; Ломоносов, Глеб Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр ВладимировичИзмерены концентрация, температура и плавающий потенциал плазмы импульсного магнетронного разряда с вольфрамовой мишенью в смесях He/D2 и He/H2 зондовым методом в зависимости от плотности мощности разряда. Зондовые измерения возможно проводить для импульсов длительностью более 100 мкс. Плотность плазмы составила ~1010 - 1011 см–3 при температуре 3–4 эВ в зависимости от плотности мощности в разряде.
- ПубликацияТолько метаданныеEffect of high-temperature oxidation on the surface properties as applied to quenching of high-temperature bodies(2021) Molotova, I. A.; Zabirov, A. R.; Yagov, V. V.; Terentyev, E. V.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M. M.; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович© 2021 Institute of Physics Publishing. All rights reserved.This paper contains the results of studying the surface properties before and after high-temperature oxidation. For this, the plate zirconium samples with chromium, gold and silver coatings were prepared. Cut profiles of the samples were obtained to study the structure of coatings and the thickness of the oxide layer. The measurements of contact angles were carried out. The results showed that a porous heterogeneous oxide layer was formed on the samples after high-temperature oxidation. At the same time, the wettability of the samples was improved. The thickness of the oxide layer on the chrome-coated zirconium sample was the smallest. Using of electroplated silver coating for experiments involving heating to high temperatures seems inappropriate because it was damaged after the oxidation tests. It is assumed that the main factor which influence on the rise of the transition temperature to the intensive cooling regime during quenching is the appearance of the oxide layer, rather than the improved wettability and wickability. High-temperature oxidation leads to the simultaneous formation of an oxide layer with a low thermal effusivity and to an improvement in wettability, therefore the contribution of each of these two effects on quenching can be confused or overestimated.