Publication: ПОЛУЧЕНИЕ НАНОСТРУКТУРИРОВАННОГО ПУХА НА ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ПРИ ОБЛУЧЕНИИ В ПЛАЗМЕ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО РАЗРЯДА
Дата
2018
Авторы
ХАРЬКОВ, М. М.
КАЗИЕВ, А. В.
ГАСПАРЯН, Ю. М.
ДАНИЛЮК, Д. В.
ПИСАРЕВ, А. А.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
Экспериментально получены режимы облучения вольфрама ионами гелия в плазме высокочастотного индукционного разряда, приводящие к формированию наноструктурированного пуха на поверхности. Энергия ионов составляла 200 эВ. Варьировались доза облучения Φ, поток ионов Γ, а также температура образца T при обработке. Диапазоны изменения параметров составляли: Φ от 3,7×1024 м–2 до 2,1×1025 м–2 при Γ от 3,5×1020 м– 2с–1 до 2,0×1021 м–2с–1; T = 1000–1300 К. Поверхности полученных образцов диагностировались на сканирующем электронном микроскопе FEI Versa 3D.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
ПОЛУЧЕНИЕ НАНОСТРУКТУРИРОВАННОГО ПУХА НА ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ПРИ ОБЛУЧЕНИИ В ПЛАЗМЕ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО РАЗРЯДА [Teкст]. / Харьков М.М. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXI конференции. - 2018. - С. 48