2018_Конференция " Взаимодействие плазмы с поверхностью (ХХI ; 24-25 января 2018 г. ; Москва).
Постоянный URI для этой коллекции
Обзор
Последние материалы
- ПубликацияОткрытый доступДИФФУЗИЯ ВОДОРОДА В ВОЛЬФРАМЕ В ПОЛЕ ДЕФЕКТОВ ПРИ НАЛИЧИИ ГРАДИЕНТА ТЕМПЕРАТУРЫ(НИЯУ МИФИ, 2018) СТЕПАНЕНКО, А. А.; ОРЕШНИКОВА, Н. М.; ПИСАРЕВ, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Степаненко, Александр АлександровичКорректное предсказание количества трития, накопленного в тайлах токамака за время его работы, является одним из принципиальных вопросов, успешное решение которых необходимо для реализации проекта термоядерного реактора ИТЭР. По этой причине исследование динамики водорода в пластинах, выстилающих вакуумную камеру установки, представляет значительный интерес.
- ПубликацияОткрытый доступНАКОПЛЕНИЕ ГЕЛИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПРИ ИОННОМ И ПЛАЗМЕННОМ ОБЛУЧЕНИИ(НИЯУ МИФИ, 2018) РЯБЦЕВ, С. А.; ГАСПАРЯН, Ю. М.; ЕФИМОВ, В. С.; АРУТЮНЯН, З. Р.; КАЗИЕВ, А. В.; ХАРЬКОВ, М. М.; ПИСАРЕВ, А, А.; Арутюнян, Зорий Робертович; Писарев, Александр Александрович; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Ефимов, Виталий СергеевичВнедрение гелия (He), продукта D–T реакции, в обращенные к плазме материалы термоядерных реакторов может существенным образом влиять на структуру их поверхностного слоя и на накопление изотопов водорода в этих материалах.
- ПубликацияОткрытый доступИССЛЕДОВАНИЕ ПЕРИОДИЧЕСКОГО РАЗРЯДА В ПОТОКЕ ЖИДКОСТИ(НИЯУ МИФИ, 2018) СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н.; БУЛГАДАРЯН, Д. Г.; БУЯНОВ, Г. О.; Буянов, Григорий Олегович; Синельников, Дмитрий НиколаевичВ работе исследовался импульсный разряд в жидкости при атмосферном давлении. Разряды такого типа могут существенно модифицировать поверхности электродов, меняя как морфологию поверхности, так и ее прочностные характеристики. Охлаждение обрабатываемого образца потоком жидкости, используемой в разряде, не позволяет ей нагреваться до температур, близких к плавлению, при этом мощность, вкладываемая в разряд, составляет несколько кВт, а обрабатываемая поверхность имеет площадь несколько см2.
- ПубликацияОткрытый доступОСАЖДЕНИЕ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ ОКСИДА ТИТАНА РАСПЫЛЕНИЕМ КЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ В ПЛАЗМЕ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА И ИХ СВОЙСТВА(НИЯУ МИФИ, 2018) БЕРНТ, Д. Д.; МАЛАНИЧЕВ, С. А.; ТРОШКИНА, И. Д.; ПИСАРЕВ, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Бернт, Дмитрий ДмитриевичВ современных прикладных тонкопленочных технологиях активно используется осаждение группы материалов, совокупно именуемых TCO – прозрачных токопроводящих оксидов (transparent conductive oxides). Являющиеся, как правило, проводниками n-типа, данные материалы обладают проводимостью, сравнимой с металлической. Так, при толщине слоя в примерно 200-300 нм можно ожидать достижения величины поверхностного сопротивления слоя меньше 10 Ом/□. Одновременно с этим, благодаря большой ширине запрещенной зоны (более 3 эВ), тонкопленочные покрытия данных материалов демонстрируют высокий уровень прозрачности по отношению к электромагнитному излучению видимых длин волн. Благодаря сочетанию высокой прозрачности и проводимости, TCO-материалы используется в производстве прозрачных электродов жидкокристаллических экранов, органических светодиодов и сенсорных экранов. Кроме того, они применяются в фотовольтаике – в качестве тонкопленочных фотопреобразователей и для создания прозрачных электродов в фотоприёмниках; в теплозащитных тонкопленочных решениях, таких как низкоэмиссионные покрытия на архитектурном стекле; могут использоваться для создания проводящих покрытий на других материалах, что защищает от формирования электростатических зарядов. Наиболее активно и широко используемыми материалами из описываемой группы являются, в силу совокупности комплекса их оптоэлектрических качеств и стоимости, ITO – смешанный оксид индия-олова (indium tin oxide), TiOx – оксид титана, ZAO – оксид легированного алюминием цинка (zinc-alumina oxide)
- ПубликацияОткрытый доступИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕМЕНТНОГО СОСТАВА ОБРАЗЦОВ ПОСЛЕ ВОЗДЕЙСТВИЯ Θ-ПИНЧЕЙ В ОКРЕСТНОСТИ ПЕРИОДИЧЕСКИХ РАЗРЯДОВ В ПОТОКЕ ЖИДКОСТИ(НИЯУ МИФИ, 2018) НЕСТЕРОВИЧ, А. В.; Нестерович, Александр ВладимировичВ докладе приводятся результаты лазерного масс-спектрометрического анализа поверхности образцов, подвергших длительной обработке сильноточными разрядами в потоке жидкости (в частности, воды с примесями различного состава). Исследования проводились несколькими лабораториями (ООО «Лазер-МИФИ», Институт металлургии и материаловедения имени А.А. Байкова РАН, Институт геохимии и аналитической химии имени В. И. Вернадского РАН, Институт общей и неорганической химии им. Н.С. Курнакова РАН и др.). Установлено, что элементный состав поверхности металла, в частности, бескислородной меди, может изменяться значительно (до 35% ат.) по сравнению с первоначальным составом (99,8% ат.) на глубину до 10 мкм. Отмечено также изменение изотопного состава (содержание изотопа 65 а.е.м. может составить 38,1% при норме 30,6%. Состав воды (дистиллированная, водопроводная, насыщенная солями) не влияет на результаты. Концентрация таких элементов, как Cl, может превышать первоначальную в 3000 раз. На глубине 10 мкм состав совпадает с первоначальным (до воздействия).