Publication: НАКОПЛЕНИЕ ГЕЛИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПРИ ИОННОМ И ПЛАЗМЕННОМ ОБЛУЧЕНИИ
Дата
2018
Авторы
РЯБЦЕВ, С. А.
ГАСПАРЯН, Ю. М.
ЕФИМОВ, В. С.
АРУТЮНЯН, З. Р.
КАЗИЕВ, А. В.
ХАРЬКОВ, М. М.
ПИСАРЕВ, А, А.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
Внедрение гелия (He), продукта D–T реакции, в обращенные к плазме материалы термоядерных реакторов может существенным образом влиять на структуру их поверхностного слоя и на накопление изотопов водорода в этих материалах.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
НАКОПЛЕНИЕ ГЕЛИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПРИ ИОННОМ И ПЛАЗМЕННОМ ОБЛУЧЕНИИ [Teкст]. / Рябцев С.А. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXI конференции. - 2018. - С. 133-136