Персона: Писарев, Александр Александрович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Писарев
Имя
Александр Александрович
Имя
107 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 10 из 107
- ПубликацияТолько метаданныеHelium retention in tungsten under plasma and ion beam irradiation and its impact on surface morphology(2020) Gasparyan, Y.; Ryabtsev, S.; Efimov, V.; Harutyunyan, Z.; Aksenova, A.; Poskakalov, A.; Kaziev, A.; Kharkov, M.; Ogorodnikova, O.; Pisarev, A.; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Ефимов, Виталий Сергеевич; Арутюнян, Зорий Робертович; Аксенова, Александра Сергеевна; Казиев, Андрей Викторович; Харьков, Максим Михайлович; Огородникова, Ольга Вячеславовна; Писарев, Александр АлександровичHelium (He) is a product of deuterium-tritium (DT)-fusion reaction and will be a natural impurity in DT plasma in future fusion devices. He retention in tungsten irradiated by plasma and mass-separated ions in a wide temperature range (300-1200 K) was investigated by means of thermal desorption spectroscopy (TDS). He retention did not exceed the level of 1.5 x 10(21) He m(-2) for all investigated samples. A significant effect of air exposure on TDS spectra was demonstrated. In contrast to in situ TDS measurements, He release after interaction with the air started from similar to 400 K, even in the case of high temperature irradiation. Changes in surface morphology were analyzed by secondary electron microscopy. Blisters were found at the surface after ion irradiation at low temperatures. Acceleration of surface modification and more complex surface morphology was observed in the case of irradiation at temperatures above 1000 K.
- ПубликацияТолько метаданныеA setup for study of co-deposited films(2020) Krat, S. A.; Popkov, A. S.; Gasparyan, Y. M.; Vasina, Y. A.; Prishvitsyn, A. S.; Pisarev, A. A.; Крат, Степан Андреевич; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Пришвицын, Александр Сергеевич; Писарев, Александр Александрович© 2020 IOP Publishing Ltd and Sissa Medialab.A setup for investigation of thermal desorption spectra of gases accumulated in thin films deposited by plasma sputtering of solid targets is described. Deposition and thermal desorption spectroscopy (TDS) are performed in two different vacuum chambers separated by a gate valve with the sample transferred between the chambers in-vacuo. The temperature of the substrate for deposited films can be varied in the range of 300-800 K; and the deposition rate is controlled by a quartz microbalance. Thermal desorption of co-deposited gases is analyzed by a quadrupole mass spectrometer. Sputtering rate and evaporation of the film during TDS are measured by quartz microbalances. Three experiments are described 1) trapping of deuterium by the growing chemically active Li film with subsequent decomposition and evaporation of the film, 2) temperature dependent deuterium trapping in the growing W film resulting in trapping with several binding energies, and 3) chemical interaction of D-Li layer with water vapor leading to isotopic H-D exchange and chemical transformation of the deposited film.
- ПубликацияОткрытый доступРАЗВИТИЕ МОДЕЛИ РАДИАЦИОННОЙ ДЕФЕКТНОСТИ ПРИПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ ВОЛЬФРАМА(НИЯУ МИФИ, 2018) ДЕГТЯРЕНКО, Н. Н.; ПИСАРЕВ, А. А.; ШУТИКОВА, М. И.; Писарев, Александр Александрович; Дегтяренко, Николай НиколаевичМетод DFT применен для исследования рекомбинации вакансий и собственного междоузельного атома вольфрама в форме краудиона в случае, когда вакансия создается на периферии краудиона и либо свободна, либо занята атомом гелия или водорода или шестью атомам H, образующих комплекс VH6.
- ПубликацияОткрытый доступТЕОРЕТИЧЕСКОЕ ОПИСАНИЕ СООСАЖДЕНИЯ ВОДОРОДА С МЕТАЛЛАМИ(НИЯУ МИФИ, 2020) КРАТ, С. А.; ГАСПАРЯН, Ю. М.; ВАСИНА, Я. А.; ПРИШВИЦЫН, А. С.; ПИСАРЕВ, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Крат, Степан Андреевич; Пришвицын, Александр СергеевичНакопление изотопов водорода, включая радиоактивный тритий, в термоядерных установках – важный вопрос с точки зрения радиационной безопасности установок. Совместное осаждение с частицами материала стенки установки (соосаждение) – один из основных каналов накопления изотопов водорода в термоядерных установках, способный приводить к образованию толстых водород-насыщенных слоёв в труднодоступных областях установки, таких как линии откачки, обратные стороны обращённых к плазме элементов. Так как содержание водорода в таких слоях может очень сильно от параметров осаждения, таких как температура поверхности, на которую происходит осаждение, скорость осаждения, потоки и энергии частиц водорода, эмпирический подход к предсказанию содержания водорода в плёнках малоперспективен. По этой причине важной является задача разработки теоретической модели соосаждения.
- ПубликацияОткрытый доступОСАЖДЕНИЕ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ПОКРЫТИЙ ОКСИДА ТИТАНА РАСПЫЛЕНИЕМ КЕРАМИЧЕСКОЙ МИШЕНИ В ПЛАЗМЕ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА И ИХ СВОЙСТВА(НИЯУ МИФИ, 2018) БЕРНТ, Д. Д.; МАЛАНИЧЕВ, С. А.; ТРОШКИНА, И. Д.; ПИСАРЕВ, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Бернт, Дмитрий ДмитриевичВ современных прикладных тонкопленочных технологиях активно используется осаждение группы материалов, совокупно именуемых TCO – прозрачных токопроводящих оксидов (transparent conductive oxides). Являющиеся, как правило, проводниками n-типа, данные материалы обладают проводимостью, сравнимой с металлической. Так, при толщине слоя в примерно 200-300 нм можно ожидать достижения величины поверхностного сопротивления слоя меньше 10 Ом/□. Одновременно с этим, благодаря большой ширине запрещенной зоны (более 3 эВ), тонкопленочные покрытия данных материалов демонстрируют высокий уровень прозрачности по отношению к электромагнитному излучению видимых длин волн. Благодаря сочетанию высокой прозрачности и проводимости, TCO-материалы используется в производстве прозрачных электродов жидкокристаллических экранов, органических светодиодов и сенсорных экранов. Кроме того, они применяются в фотовольтаике – в качестве тонкопленочных фотопреобразователей и для создания прозрачных электродов в фотоприёмниках; в теплозащитных тонкопленочных решениях, таких как низкоэмиссионные покрытия на архитектурном стекле; могут использоваться для создания проводящих покрытий на других материалах, что защищает от формирования электростатических зарядов. Наиболее активно и широко используемыми материалами из описываемой группы являются, в силу совокупности комплекса их оптоэлектрических качеств и стоимости, ITO – смешанный оксид индия-олова (indium tin oxide), TiOx – оксид титана, ZAO – оксид легированного алюминием цинка (zinc-alumina oxide)
- ПубликацияОткрытый доступАЗОТИРОВАНИЕ ТИТАНОВОГО СПЛАВА ВТ-23 В АНОМАЛЬНОМ ТЛЕЮЩЕМ РАЗРЯДЕ(НИЯУ МИФИ, 2015) БОРИСЮК, Ю. В.; ОРЕШНИКОВА, Н. М.; ХОДАЧЕНКО, Г. В.; ТУМАРКИН, А. В.; БЕРДНИКОВА, М. М.; ПИСАРЕВ, А. А.; Писарев, Александр Александрович; Тумаркин, Александр Владимирович; Бердникова, Мария МихайловнаТитан и его сплавы широко используются в промышленности и медицине благодаря таким своим свойствам, как малый удельный вес, высокая коррозионная стойкость и биологическая совместимость. Однако невысокая твердость, а соответственно, и низкая износостойкость этих материалов являются одной из причин, ограничивающих их более широкое применение. В большинстве случаев достаточно повысить твердость не всей детали, а лишь ее поверхности.
- ПубликацияОткрытый доступМАГНЕТРОННОЕ ОСАЖДЕНИЕ ЗАЩИТНЫХ TiN ПОКРЫТИЙ НА ИЗДЕЛИЯХ ИЗ СПЛАВА Al-Cu-Ag-Mg-Mn(НИЯУ МИФИ, 2016) СТЕПАНОВА, Т. В.; КАЗИЕВ, А. В.; АТАМАНОВ, М. В.; ИЗМАЙЛОВА, Н. Ф.; ТУМАРКИН, А. В.; ХАРЬКОВ, М. М.; БЕРДНИКОВА, М. М.; ПИСАРЕВ, А. А.; Тумаркин, Александр Владимирович; Казиев, Андрей Викторович; Степанова, Татьяна Владимировна; Бердникова, Мария Михайловна; Писарев, Александр Александрович; Харьков, Максим МихайловичОдним из перспективных направлений улучшения износостойкости, прочности, коррозионной стойкости алюминиевых сплавов является ис-пользование для этих целей современных плазменных технологий, кото-рые являются энергосберегающими и экологически безопасными.
- ПубликацияОткрытый доступУДЕРЖАНИЕ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ С ДОБАВКАМИ КАР-БИДА ТИТАНА И КАРБИДА ТАНТАЛА ПРИ ВЫСОКИХ ТЕМПЕ-РАТУРАХ(НИЯУ МИФИ, 2014) ЗИБРОВ, М С.; ПИСАРЕВ, А. А.; ГАСПАРЯН, Ю. М.; MAYER, М.; GAO, L.; ELGETI, S.; KURISHITA, Н.; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Писарев, Александр АлександровичВольфрам будет использован в ИТЭР в качестве обращенного к плазме материала в диверторной области, и его также планируют применять в термоядерных реакторах следующего поколения. Однако использование чистого вольфрама является проблематичным в связи с его неудовлетво-рительными термо-механическими свойствами. Вольфрам с добавками карбида титана или карбида тантала обладает повышенной пластично-стью при комнатной температуре, повышенной стойкостью к радиацион-ным повреждениям и хорошей сопротивляемостью к растрескиванию при срывах плазмы, что делает привлекательным его использование в качест-ве ОПМ или конструкционного материала [1]. Однако предыдущие ис-следования показали, что при повышенных температурах (> 450 K) удер-жание изотопов водорода в этих материалах оказывается большим, чем в чистом вольфраме [2,3]. В реакторе ИТЭР и термоядерных реакторах сле-дующего поколения диверторные пластины будут работать при высоких температурах (> 800 K), поэтому изучение накопления водорода в этих материалах при высоких температурах имеет особую важность.
- ПубликацияТолько метаданныеRetention of Deuterium in the Surface Layers of Tungsten Preliminarily Irradiated with Helium Ions(2020) Harutyunyan, Z. R.; Gasparyan, Y. M.; Efimov, V. S.; Ryabtsev, S. A.; Pisarev, A. A.; Арутюнян, Зорий Робертович; Гаспарян, Юрий Микаэлович; Ефимов, Виталий Сергеевич; Писарев, Александр Александрович© 2020, Allerton Press, Inc.Abstract: The retention of deuterium in tungsten preliminarily irradiated with helium ions is investigated by means of thermal desorption spectroscopy (TDS). Preliminary irradiation is performed with a He+ ion beam having an energy of 3 keV and fluence ranging in the interval 1019–1021 He m−2, in order to produce a defect structure typical of different degrees of damage. The specimens are then irradiated with D+3 ions having an energy of 2 keV and a weak fluence of 1019 D m−2, with subsequent TDS analysis to characterize the interaction between deuterium and helium-induced defects. It is shown that an increase in the deuterium retention is observed as soon as irradiation with the minimal fluence of helium ions, but it falls to the background level at fluences above 5 × 1021 He m−2.
- ПубликацияТолько метаданныеThe synthesis and studies of crystal/local structures and morphology of hydrated molybdenum oxides(2021) Khramov, E. V.; Zubavichus, Y. V.; Shchetinin, I. V.; Ponkratov, K. V.; Popov, V. V.; Menushenkov, A. P.; Yastrebtsev, A. A.; Molokova, A. Y.; Pisarev, A. A.; Попов, Виктор Владимирович; Менушенков, Алексей Павлович; Ястребцев, Алексей Алексеевич; Писарев, Александр Александрович© 2021 Elsevier Inc.The crystal/local structure and morphology of hydrated molybdenum oxides particles obtained by acidic precipitation of molybdates solutions were studied using X-ray diffraction, X-ray absorption spectroscopy, scanning electron microscopy, Raman and IR spectroscopy. The precipitation of ammonium heptamolybdate solutions (pH = 1.00) at room temperature result in the formation of poorly crystallized hydrated molybdenum oxides. At the same time, acidification of the sodium molybdate solutions does not lead to the appearance of precipitates for several days. Heating to 90 °C and aging the reaction suspension prepared from both ammonium heptamolybdate and sodium molybdate results in the formation of prismatic h-MoO3 particles with the hexagonal crystal structure. It was shown that distorted octahedra MoO6 are the basic structural units in the formed hydrated molybdenum oxides. Along with the presence of Mo[dbnd]O and Mo–O bonds, the presence of water molecules, hydroxyl ions, and NH4+ (or Na+) ions was detected in the structure of hydrated MoO3. The type of Mo salt and acid significantly affects the morphology of h-MoO3 particles. Large h-MoO3 particles are formed by aggregation of small ones and Ostwald ripening due to the “dissolution - precipitation” process.