Publication:
Predictive Analysis of Microcircuits’ Radiation Hardness in the Fabrication Process. II. Selection of Test Objects and the Statistical Processing of the Obtained Results

Дата
2024
Авторы
Moskovskaya, Y. M.
Boychenko, D. V.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Другие подразделения НИЯУ МИФИ
Структурные подразделения НИЯУ МИФИ, не включенные в состав институтов и факультетов.
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Выпуск журнала
Аннотация
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Moskovskaya, Y. M. Predictive Analysis of Microcircuits’ Radiation Hardness in the Fabrication Process. II. Selection of Test Objects and the Statistical Processing of the Obtained Results / Moskovskaya, Y. M., Boychenko, D. V. // Russian Microelectronics. - 2024. - 53. - № 7. - P. 696-703. - 10.1134/S1063739724700847
URI
https://www.doi.org/10.1134/S1063739724700847
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85218221846&origin=resultslist
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/37503
Коллекции
Публикации