Publication:
FABRICATION OF FINE-DISPERSED COATINGS AT DEPOSITION WITH SIMULTANEOUS SPUTTERING

Файлы
стр. 150-152.pdf(703.3 KB)
Дата
2015
Авторы
Rogov, A. V.
Martynenko, Yu. V.
Kapustin, Yu. V.
Belova, N. E.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
New low temperature method of homogeneous Mo nanocrystallite coating formation was developed. The coating was formed at magnetron Mo deposition on polished Mo polycrystalline substrate with simultaneous ion sputtering. Deposition and sputtering were performed in combined discharge of magnetron – hole cathode [1]. X-ray difractometry and SEM were used for coating structure investigation. A theoretical model was developed for coating formation by proposed method. At low excess of deposition rate over sputtering rate uncontrolled fast growth of some Mocrystallites is effectively suppressed, being fine dispersed coating is formed. Such coatings can be used as a radiation stable reflecting coatings for high temperature plasma diagnostic mirrors [2, 3]. The proposed method can be used also for other materials modification, semiconductors included.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
FABRICATION OF FINE-DISPERSED COATINGS AT DEPOSITION WITH SIMULTANEOUS SPUTTERING [Text.]/ Rogov A. V. [и др.] // Взаимодействие ионов с поверхностью «ВИП – 2015»: труды XXII Международной конференции Том 3. - 2015. -С. 150-152
URI
https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/25503
Коллекции
2015_Взаимодействие ионов с поверхностью (ВИП)