Персона: Сорокин, Иван Александрович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Сорокин
Имя
Иван Александрович
Имя
10 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 10 из 10
- ПубликацияТолько метаданныеOn the possibility of indirect measurement of the thin carbon films thickness using energy-dispersive analysis(2021) Sorokin, I. A.; Kolodko, D. V.; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня Вячеславич© 2021 Elsevier B.V.The article describes theoretical feasibility of a technique for indirect measurement of the thin carbon films thickness using energy dispersive x-ray spectroscopy. The method is based on measuring the ratio of the characteristic radiation from the substrate material below the analyzed carbon film and from the material of the additional covering layer. The technique was compared with a well-known method based on measuring the characteristic substrate material radiation. The possibilities and limits of applicability of the energy dispersive spectroscopy for the thickness determination of thin carbon films were qualitatively determined by Monte Carlo numerical simulation method of characteristic x-ray spectra.
- ПубликацияТолько метаданныеDeposition of Metal-Doped Diamond-Like Films Using a Hollow Cathode Discharge(2020) Sorokin, I. A.; Kolodko, D. V.; Krasnobaev, K. I.; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня Вячеславич© 2020, Pleiades Publishing, Inc.Abstract—A simple technique is presented for producing diamond-like films with copper impurity by sputtering the surface of a copper cathode with argon ions in a glow discharge with a hollow cathode with simultaneous chemical deposition diamond-like films on its surface. It was shown that a small (up to 1: 1000) admixture of propane at the pressure of the plasma forming gas of 40 Pa does not affect the plasma parameters, however, it allows you to vary the relative copper content in the diamond-like film.
- ПубликацияТолько метаданныеGrowth of Thin Graphite Films on a Dielectric Substrate using Heteroepitaxial Synthesis(2020) Sorokin, I. A.; Kolodko, D. V.; Luzanov, V. A.; Shustin, E. G.; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня ВячеславичA technique for growing thin graphite films on a dielectric substrate by annealing the Al2O3(0001)/Ni(111)/ta-C structure has been optimized. This technique is based on catalytic decomposition of hydrocarbons on the surface of a single-crystal catalyst metal film on a dielectric substrate and subsequent diffusion and crystallization of carbon between the metal film and the substrate. A thin graphite film with a low density of crystal-structure defects is obtained on the dielectric substrate after chemical etching of the metal film.
- ПубликацияТолько метаданныеModel of a Plasma Layer Formed by an Electron Beam(2020) Tarakanov, V. P.; Shustin, E. G.; Kolodko, D. V.; Sorokin, I. A.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович© 2020, Pleiades Publishing, Ltd.Abstract—: Results are presented of the particle-in-cell numerical simulations by the KARAT code of the formation of a plasma–beam discharge in the absence of both the longitudinal magnetic field and the initial plasma. Oscillations of the electric field generated by the plasma–beam instability in the electron beam region almost do not affect the plasma at the periphery of the system. Simulation results are compared to the results obtained earlier by a simplified model and to the results of test experiments. The spatial distributions of the plasma density and electron temperature qualitatively agree with the experimental results.
- ПубликацияОткрытый доступLEIS ANALYSIS OF THE W SURFACE DURING WATER VAPOR ADSORPTION(НИЯУ МИФИ, 2017) Mamedov, N. V.; Kurnaev, V. A.; Sinelnikov, D. N.; Kolodko, D. V.; Sorokin, I. A.; Мамедов, Никита Вадимович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Синельников, Дмитрий Николаевич; Сорокин, Иван АлександровичThe adsorption of water on the surface is one of the main problems in vacuum technology. Since water is a good adsorbent, its adsorption is the reason that prevents the fast pumping of vacuum systems up to ultra-high vacuum. In addition, water vapor adsorption on metal surfaces during plasma surface interaction is a problem [1]. Singly scattered and recoil ions could form narrow peaks in energy spectra and provide information about atomic composition of the first atomic layer giving information about structure and composition of the surface and very sensitivity to the first layer of atoms [2 -5]. It was also shown [6] that the thickness of light element thin layers on the heavy substrate can be analyzed with good depth resolution (~0,3nm) due to scattering of hydrogen ions with keV energies. Application of ion scattering spectroscopy at pressures up to several mTorr is presented in [7, 8]. In this work experimental results of low energy ion spectroscopy (LEIS) of W samples during water vapor adsorption are presented.
- ПубликацияТолько метаданныеEtching of "Microwire-on-Insulator"-Type Structures(2022) Shustin, E. G.; Kolodko, D. V.; Luzanov, V. A.; Mirgorodskaya, E. N.; Sorokin, I. A.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович
- ПубликацияОткрытый доступИССЛЕДОВАНИЕ БОР-ЛИТИЕВОГО КОМПОЗИТА ПОД ДЕЙСТВИЕМ МОЩНЫХ ТЕПЛОВЫХ И ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ НАГРУЗОК(НИЯУ МИФИ, 2022) СЕЛИВАНОВ, Р. А.; СОРОКИН, И. А.; КРАТ, С. А.; СЕРГЕЕВ, Н. С.; КОЛОДКО, Д. В.; ПОДОЛЯКО, Ф. С.; ФЕФЕЛОВА, Е. А.; ВОЛКОВА, О. В.; ЗАХАРОВ, В. В.; Подоляко, Федор Сергеевич; Селиванов, Ростислав Алексеевич; Сорокин, Иван Александрович; Сергеев, Никита Сергеевич; Крат, Степан Андреевич; Колодко, Добрыня ВячеславичВыбор материала обращённых к плазме элементов (ОПЭ) термоядерной установки – ключевой вопрос, определяющий её работоспособность. Одним из перспективных материалов является литий, использование которого предполагается в рамках концепции жидкометаллической стенки термоядерной установки. Преимущества лития по сравнению с другими материалами состоят в его минимально возможном атомном номере (Z=3), хорошей совместимости с водородной плазмой, низкой энергией ионизации, широким диапазоном температур, в котором он может применяться (от температуры плавления ~180 °С до ~ 1000 °С). Эксперименты на токамаках с жидколитиевыми ОПЭ показали положительные эффекты применения лития на термоядерную плазму (уменьшение водородного рециклинга, уменьшение эффективного заряда плазмы, подавление нестабильностей). Из всех существующих технологических решений, связанных с применением лития, наиболее развитым является использование капиллярно-пористых систем (КПС), наполненных литием, в качестве ОПЭ. При соблюдении условия хорошей смачиваемости, правильном выборе материала и конструкции матрицы, КПС с жидким литием способны выдерживать тепловые нагрузки ~ 10 МВт/м2. К недостаткам существующих КПС следует отнести сложность в их обслуживании, невозможность ремонта в случае локального разрушения матрицы, например в случае локального истощения лития, большой атомный номер тугоплавких металлов, используемых в качестве материала матрицы.
- ПубликацияТолько метаданныеPlasma behavior in e×h pulse discharge(2020) Rohmanenkov, A.; Solodovnikov, A.; Mamedov, N.; Maslennikov, S.; Sorokin, I.; Kolodko, D.; Мамедов, Никита Вадимович; Масленников, Сергей Павлович; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня Вячеславич© 2020 IEEE.The paper presents the results of experiments and PIC (particle-in-cell) simulations of ignition characteristics of miniature pulsed penning ion source. Also the dependence of the discharge current pulse on the gas pressure and magnetic field are presented. Plasma behavior (electron and ion density in axial and radial dimensional) depending on magnitude (and configuration) of the magnetic field and pressure (working gas is deuterium) was shown.
- ПубликацияТолько метаданныеPlanar hollow cathode sputtering with asymmetrical voltage supply(2023) Sorokin, I. A.; Kolodko, D. V.; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня ВячеславичThis article studies a planar hollow cathode discharge (HCD) with an asymmetric negative potential applied to parallel cathodes. The hollow cathode effect is preserved when an additional high voltage bias is applied to one of cathodes. For the argon pressures of 15, 20 and 60 Pa, the current-voltage characteristics of the HCD were obtained with an extra bias voltage applied on the iron cathode/target. The paper describes the sputtering system based on a HCD, consisting of two cathodes: a flat target and a tungsten mesh located at a distance of 7 mm, through which the deposited material passes. At the argon pressure of 40 Pa, the dynamics of the local plasma parameters and the iron deposition rate on a substrate under floating potential located at a distance of 40 mm from the grid were measured. The asymmetrical voltage supply in hollow cathode sputtering lead to a significant increase in the iron sputtering rate (from 2 to 16 nm/min), which is associated with both an increase in the plasma density and the sputtering coefficient of the target material. Sputtering system based on a planar HCD is advantageous due to the absence of magnetic field, which facilitates deposition of soft magnetic materials. © 2022 Elsevier Ltd
- ПубликацияТолько метаданныеMEPhIST-0 Tokamak for Education and Research(2023) Krat, S.; Prishvitsyn, A.; Alieva, A.; Vinitskiy, E.; Ulasevich, D.; Izarova, A.; Podolyako, F.; Belov, A.; Chernenko, A.; Sinelnikov, D.; Bulgadaryan, D.; Sorokin, I.; Gubskiy, K.; Kaziev, A.; Kolodko, D.; Tumarkin, V.; Isakova, A.; Grunin, A.; Begrambekov, L.; Melnikov, A.; Крат, Степан Андреевич; Пришвицын, Александр Сергеевич; Виницкий, Егор Александрович; Уласевич, Даниил Львович; Изарова, Анастасия Дмитриевна; Подоляко, Федор Сергеевич; Белов, Андрей Сергеевич; Черненко, Андрей Сергеевич; Синельников, Дмитрий Николаевич; Сорокин, Иван Александрович; Губский, Константин Леонидович; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Владимир Александрович; Беграмбеков, Леон Богданович; Мельников, Александр Владимирович