Publication:
СВЧ ИСТОЧНИК ИОНОВ С ЭЦР

Дата
2021
Авторы
Степанов, Д. С.
Школьников, Э. Я
Степанов, Дмитрий Сергеевич
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт общей профессиональной подготовки (ИОПП)
Миссией Института является: фундаментальная базовая подготовка студентов, необходимая для получения качественного образования на уровне требований международных стандартов; удовлетворение потребностей обучающихся в интеллектуальном, культурном, нравственном развитии и приобретении ими профессиональных знаний; формирование у студентов мотивации и умения учиться; профессиональная ориентация школьников и студентов в избранной области знаний, формирование способностей и навыков профессионального самоопределения и профессионального саморазвития. Основными целями и задачами Института являются: обеспечение высококачественной (фундаментальной) базовой подготовки студентов бакалавриата и специалитета; поддержка и развитие у студентов стремления к осознанному продолжению обучения в институтах (САЕ и др.) и на факультетах Университета; обеспечение преемственности образовательных программ общего среднего и высшего образования; обеспечение высокого качества довузовской подготовки учащихся Предуниверситария и школ-партнеров НИЯУ МИФИ за счет интеграции основного и дополнительного образования; учебно-методическое руководство общеобразовательными кафедрами Института, осуществляющими подготовку бакалавров и специалистов по социо-гуманитарным, общепрофессиональным и естественнонаучным дисциплинам, обеспечение единства требований к базовой подготовке студентов в рамках крупных научно-образовательных направлений (областей знаний).
Выпуск журнала
Аннотация
Полезная модель относится к области электрических газоразрядных и вакуумных электронных приборов, а именно к приборам с ионным пучком с использованием высокочастотного возбуждения, например, сверхвысокочастотного. Технический результат предлагаемой полезной модели направлен на увеличение извлекаемого из СВЧ источника ионов с ЭЦР ионного тока и его КПД за счет усиления степени согласованности между распределениями электрической компоненты СВЧ поля и внешнего магнитного поля, посредством приведения распределения магнитного поля в двух горизонтальных измерениях к форме описываемой функцией sin-2, противоположной форме распределения квадрата напряженности электрической компоненты СВЧ поля описываемой функцией sin2, причем точный ЭЦР должен достигаться на всех коллинеарных вектору напряженности СВЧ поля стенках резонатора. Этот результат достигается тем, что в известном СВЧ источнике ионов с ЭЦР, состоящим из призматической плазменной камеры-резонатора 1 длиной l, шириной b, высотой а, СВЧ генератора на основной моде 2, устройства ввода СВЧ мощности 3, устройства напуска газа 4, экстрагирующих электродов 5, и постоянных магнитов, расположенных вокруг торцов плазменной камеры-резонатора 1, отличающимся тем, что постоянные магниты разделены на три группы, первая группа состоит из восьми основных постоянных магнитов, вторая группа состоит из четырех дополнительных постоянных магнитов и третья группа состоит из четырех вспомогательных постоянных магнитов 6, при этом, восемь основных постоянных магнитов расположены над торцевыми ребрами плазменной камеры-резонатора 1 под углом α к ее продольной оси и разделены на две подгруппы, первая подгруппа состоит из четырех основных постоянных магнитов 7, которые имеют длину b, высоту a1, ширину b и расположены над горизонтальными ребрами плазменной камеры-резонатора 1, а вторая подгруппа состоит из четырех основных постоянных магнитов 8, которые имеют длину l1, высоту а1, ширину а и расположены над вертикальными ребрами плазменной камеры-резонатора 1, кроме этого, четыре дополнительных постоянных магнита разделены на две подгруппы, первая подгруппа состоит из двух дополнительных горизонтальных постоянных магнитов 9, которые имеют длину l2, высоту а2, ширину b и расположены по центру горизонтальных граней плазменной камеры-резонатора 5, а вторая подгруппа состоит из двух дополнительных вертикальных постоянных магнитов 10, которые имеют длину l2, высоту а2, ширину b и расположены по центру боковых граней плазменной камеры-резонатора 5, а четыре вспомогательных постоянных магнита 6 имеют длину l3, высоту b2, ширину а и расположены вблизи краев боковых стенок плазменной камеры-резонатора 5, причем параметры α, l1, a1, l2, а2, b1, l3, b2, l, b, а определяются из следующих соотношений: 16°<α<20°; 0.55⋅l1<0.6⋅l; 0.3⋅a<а1<0.4⋅а; <0.5⋅l; 0.3⋅а<а2<0.4⋅а; 0.1⋅b1<0.15⋅b; <0.15⋅l; 0.4⋅l32<0.6⋅l3. Данные соотношения были получены в результате численного моделирования.
Описание
Патент на полезную модель
Ключевые слова
Патент
Цитирование
Степанов Д. С. СВЧ ИСТОЧНИК ИОНОВ С ЭЦР / Степанов Д.С., Школьников Э.Я.- № 2021114208; Заявл. 20.05.2021.- 2021
Коллекции