Publication: ОЦЕНКА РАСПЫЛЕНИЯ ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МОДЕЛИ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИСТЕНОЧНОГО ПАДЕНИЯ ПОТЕНЦИАЛА С УЧЕТОМ ВТОРИЧНОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ЭМИССИИ В НАКЛОННОМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ
Дата
2015
Авторы
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
In this work the useful analytical approximation for the electric potential profile in the presence of the secondary electron emission in the oblique magnetic field is suggested. It is in good agreement with respective simulation performed with the combined PIC and Monte Carlo code ELECTRAN. The influence of the magnetic field inclination angle on the angle and energy distributions of ions reaching the wall and thus on the effective sputtering is analyzed for various first wall materials.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
Бородкина И. Е. ОЦЕНКА РАСПЫЛЕНИЯ ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МОДЕЛИ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИСТЕНОЧНОГО ПАДЕНИЯ ПОТЕНЦИАЛА С УЧЕТОМ ВТОРИЧНОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ЭМИССИИ В НАКЛОННОМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ [Text.] / Бородкина И. Е., Цветков И. В. // Взаимодействие ионов с поверхностью «ВИП – 2015»: труды XXII Международной конференции Том 1. - 2015. - С. 102-105