Персона: Цветков, Игорь Владимирович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Другие подразделения НИЯУ МИФИ
Структурные подразделения НИЯУ МИФИ, не включенные в состав институтов и факультетов.
Статус
Фамилия
Цветков
Имя
Игорь Владимирович
Имя
4 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 4 из 4
- ПубликацияОткрытый доступОЦЕНКА РАСПЫЛЕНИЯ ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МОДЕЛИ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ПРИСТЕНОЧНОГО ПАДЕНИЯ ПОТЕНЦИАЛА С УЧЕТОМ ВТОРИЧНОЙ ЭЛЕКТРОННОЙ ЭМИССИИ В НАКЛОННОМ МАГНИТНОМ ПОЛЕ(НИЯУ МИФИ, 2015) Бородкина, И. Е.; Цветков, И. В.; Цветков, Игорь ВладимировичIn this work the useful analytical approximation for the electric potential profile in the presence of the secondary electron emission in the oblique magnetic field is suggested. It is in good agreement with respective simulation performed with the combined PIC and Monte Carlo code ELECTRAN. The influence of the magnetic field inclination angle on the angle and energy distributions of ions reaching the wall and thus on the effective sputtering is analyzed for various first wall materials.
- ПубликацияОткрытый доступВЛИЯНИЕ НАКЛОННОГО МАГНИТНОГО ПОЛЯ НА РАСПРЕДЕЛЕНИЕ ПОТЕНЦИАЛА ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ ОКОЛО ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ(НИЯУ МИФИ, 2014) БОРОДКИНА, И. Е.; KOMM, М.; ЦВЕТКОВ, И. В.; Цветков, Игорь ВладимировичДля моделирования различных процессов взаимодействия плазмы с поверхностью, а также для анализа экспериментальных данных в присте-ночной области ТЯР существенным является корректное описание усло-вий в этой области.
- ПубликацияОткрытый доступРАСЧЕТ ДИНАМИКИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ В ПРИСТЕНОЧНОМ СЛОЕ И РАСПЫЛЕНИЯ ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ(НИЯУ МИФИ, 2015) БОРОДКИНА. И. Е.; ЦВЕТКОВ, И. В.; Цветков, Игорь ВладимировичВ рамках реализации международного проекта ITER в настоящее время большое внимание уделяется изучению процессов в пристеночной области плазмы, существенно влияющих как на время удержания плазмы, так и на параметры удерживаемой плазмы. Для моделирования динамики заряженных частиц, а также процессов захвата и отражения изотопов водорода, процессов распыления обращенных к плазме поверхностей (ОПЭ) необходимо корректное описание пристеночной области, в том числе распределения потенциала электрического поля.
- ПубликацияОткрытый доступSURFACE BIASING INFLUENCE ON THE PHYSICAL SPUTTERING OF PLASMA-FACING COMPONENTS IN FUSION DEVICES(НИЯУ МИФИ, 2016) BORODKINA, I.; BORODIN, D.; BREZINSEK, S.; TSVETKOV, I. V.; KURNAEV, V. A.; KLEPPER, C. C.; LASA, A.; KRETER, A.; Цветков, Игорь ВладимировичUnderstanding plasma-surface interaction (PSI) processes is important for the successful realization of the ITER project. PSI processes are determined to a large extent by the Debye sheath and magnetic pre-sheath effects. For the cor-rect calculation of ions trajectories just before the surface impact and in the presence of the oblique magnetic field, it is necessary to include the precise sheath electric field distribution. Furthermore, in a number of experiments the surface biasing up to several hundred Volt is applied to the plasma facing com-ponents (PFC) that also influences greatly the sheath potential.