Publication:
Static and dynamic oxide-Trapped-charge-induced variability in nanoscale CMOS circuits

Дата
2019
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Выпуск журнала
Аннотация
© 1963-2012 IEEE. The interdevice mismatch and intradevice temporal instability in the nanoscale CMOS circuits is examined from a unified point of view as a static and dynamic parts of the variability concerned with stochastic oxide charge trapping and detrapping. This approach has been benchmarked on the recent evidence of the radiation-induced increase of intertransistor mismatch in 60-nm ICs. A possible reliability limitation in ultrascale circuits concerned with the single or a few charged defect instability is pointed out and estimated.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Zebrev, G. Static and dynamic oxide-Trapped-charge-induced variability in nanoscale CMOS circuits / Zebrev, G. // IEEE Transactions on Electron Devices. - 2019. - 66. - № 6. - P. 2483-2488. - 10.1109/TED.2019.2907816
Коллекции