Publication:
ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ПРИМЕСИ ВОЛЬФРАМА В ГЕЛИЕВОЙ ПЛАЗМЕ НА РОСТ ВОЛЬФРАМОВОГО НАНОПУХА

Файлы
стр. 35.pdf(585.52 KB)
Дата
2021
Авторы
КУЛАГИН, В. В.
СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н.
БУЛГАДАРЯН, Д. Г.
ХАРЬКОВ, М. М.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
Представлен обзор и анализ опубликованных экспериментальных данных по облучению поверхности вольфрама ионами гелиевой плазмы при добавлении потока перепыленного вольфрама (W). Показано, что включение W в поток облучения ведет к значительному повышению скорости роста вольфрамового пуха по сравнению со случаем чистого гелиевого облучения. Ускоренный рост проявляется при достижении значительной пористости сформированных структур. В данном случае формирование наноструктур на поверхности вольфрама перестает быть ограниченным диффузией. На основе опубликованных литературных данных получена оценка потока вольфрама, при которой эффект ускорения роста может проявиться.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
ОЦЕНКА ВЛИЯНИЯ ПРИМЕСИ ВОЛЬФРАМА В ГЕЛИЕВОЙ ПЛАЗМЕ НА РОСТ ВОЛЬФРАМОВОГО НАНОПУХА [Text.] / КУЛАГИН В.В. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXIV конференции. - 2021. - С. 35
URI
https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/26651
Коллекции
2021_ Конференция " Взаимодействие плазмы с поверхностью» (ХХIV ; 4-5 февраля 2021 г. ; Москва).