Publication:
УДЕРЖАНИЕ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ С ДОБАВКАМИ КАР-БИДА ТИТАНА И КАРБИДА ТАНТАЛА ПРИ ВЫСОКИХ ТЕМПЕ-РАТУРАХ

Дата
2014
Авторы
ЗИБРОВ, М С.
ПИСАРЕВ, А. А.
ГАСПАРЯН, Ю. М.
MAYER, М.
GAO, L.
ELGETI, S.
KURISHITA, Н.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
Вольфрам будет использован в ИТЭР в качестве обращенного к плазме материала в диверторной области, и его также планируют применять в термоядерных реакторах следующего поколения. Однако использование чистого вольфрама является проблематичным в связи с его неудовлетво-рительными термо-механическими свойствами. Вольфрам с добавками карбида титана или карбида тантала обладает повышенной пластично-стью при комнатной температуре, повышенной стойкостью к радиацион-ным повреждениям и хорошей сопротивляемостью к растрескиванию при срывах плазмы, что делает привлекательным его использование в качест-ве ОПМ или конструкционного материала [1]. Однако предыдущие ис-следования показали, что при повышенных температурах (> 450 K) удер-жание изотопов водорода в этих материалах оказывается большим, чем в чистом вольфраме [2,3]. В реакторе ИТЭР и термоядерных реакторах сле-дующего поколения диверторные пластины будут работать при высоких температурах (> 800 K), поэтому изучение накопления водорода в этих материалах при высоких температурах имеет особую важность.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
УДЕРЖАНИЕ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ С ДОБАВКАМИ КАР-БИДА ТИТАНА И КАРБИДА ТАНТАЛА ПРИ ВЫСОКИХ ТЕМПЕ-РАТУРАХ [Текст.] / ЗИБРОВ М. С. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XVII конференции. - 2014. - C. 69-72