Publication:
«On-line» neutron fluence registration by silicon bipolar transistor

Дата
2019
Авторы
Butin, I. V.
Butina, A. V.
Butin, V. I.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт физико-техничеcких интеллектуальных систем
Институт физико-технических интеллектуальных систем впервые в стране обеспечивает комплексную подготовку специалистов по созданию киберфизических устройств и систем самого различного назначения – основного вида технических устройств середины 21 века. ИФТИС реализует «дуальную» модель образования, в рамках которой направляет студентов на стажировку и выпускников для трудоустройства на передовые предприятия, занятые созданием инновационных киберфизических продуктов, в первую очередь, на предприятия ГК «Росатом». Основным индустриальным партнером ИФТИС является ведущее предприятие ГК «Росатом» — ФГУП «ВНИИА им. Н.Л. Духова».
Выпуск журнала
Аннотация
© 2019 Published under licence by IOP Publishing Ltd. An efficient practical method of bipolar transistor application for neutron fluence registration is presented. The method is focused on the neutron fluences damage effect correlation for various sources to reference source. The bipolar transistor connection diagram and an example of device realization based on STM32 microcontroller are described. STM32 is used for providing test signals and parameter registration used for gain factor calculation of the bipolar transistors monitor (BTM). The proposed approach allows to consider the features of BTM that is pre-irradiated at reference source and their application as the neutron fluence monitors. These connection diagram and constructive solutions provide "on-line" neutron fluence registration for different sources in terms of the reference source as required for the verification of radiation test results.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Butin, I. V. «On-line» neutron fluence registration by silicon bipolar transistor / Butin, I.V., Butina, A.V., Butin, V.I. // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. - 2019. - 498. - № 1. - 10.1088/1757-899X/498/1/012006
URI
https://www.doi.org/10.1088/1757-899X/498/1/012006
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85065575989&origin=resultslist
 http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Alerting&SrcApp=Alerting&DestApp=WOS_CPL&DestLinkType=FullRecord&UT=WOS:000472784800006
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/18000
Коллекции
Публикации