Publication:
О ВОЗМОЖНОСТИ КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕМЕНТОВ В ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ МАТЕРИАЛАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАЛОУГЛОВОГО LEIS

Дата
2023
Авторы
НИКИТИН, И. А.
СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н.
ЕФИМОВ, Н. Е.
ГРИШАЕВ, М. В.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
Одним из кандидатных материалов для диверторов будущих термоядерных установок является сплав W-Cr-Y, именуемый smart alloy (умный сплав). При нагреве такого материала до температур ~1000 K поверхностный слой обогащается хромом, что препятствует образованию оксида вольфрама в случае достаточного количества кислорода в окружающей среде. Определение соотношений вольфрама и хрома в тонких поверхностных слоях может проводиться с использованием спектроскопии рассеяния ионов низких энергий (LEIS). Этот метод позволяет анализировать приповерхностные слои глубиной до 10 нм. На установке «Большой масс-монохроматор МИФИ» реализован LEIS с углом рассеяния 32 ̊ и энергией первичных ионов от 3 до 18 кэВ. Использование LEIS с малыми углами рассеяния позволяет детектировать не только рассеянные, но и упруговыбитые частицы и в то же время повышает чувствительность этой методики.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
О ВОЗМОЖНОСТИ КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕМЕНТОВ В ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ МАТЕРИАЛАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАЛОУГЛОВОГО LEIS [Text]. / НИКИТИН И.А. [et al.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: Сборник научных трудов XXVII конференфии. - 2023. - С. 126-128