Publication: О ВОЗМОЖНОСТИ КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕМЕНТОВ В ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ МАТЕРИАЛАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАЛОУГЛОВОГО LEIS
| dc.contributor.author | НИКИТИН, И. А. | |
| dc.contributor.author | СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н. | |
| dc.contributor.author | ЕФИМОВ, Н. Е. | |
| dc.contributor.author | ГРИШАЕВ, М. В. | |
| dc.contributor.author | Никитин, Иван Андреевич | |
| dc.contributor.author | Ефимов, Никита Евгеньевич | |
| dc.contributor.author | Гришаев, Максим Валерьевич | |
| dc.date.accessioned | 2024-12-11T09:26:16Z | |
| dc.date.available | 2024-12-11T09:26:16Z | |
| dc.date.issued | 2023 | |
| dc.description.abstract | Одним из кандидатных материалов для диверторов будущих термоядерных установок является сплав W-Cr-Y, именуемый smart alloy (умный сплав). При нагреве такого материала до температур ~1000 K поверхностный слой обогащается хромом, что препятствует образованию оксида вольфрама в случае достаточного количества кислорода в окружающей среде. Определение соотношений вольфрама и хрома в тонких поверхностных слоях может проводиться с использованием спектроскопии рассеяния ионов низких энергий (LEIS). Этот метод позволяет анализировать приповерхностные слои глубиной до 10 нм. На установке «Большой масс-монохроматор МИФИ» реализован LEIS с углом рассеяния 32 ̊ и энергией первичных ионов от 3 до 18 кэВ. Использование LEIS с малыми углами рассеяния позволяет детектировать не только рассеянные, но и упруговыбитые частицы и в то же время повышает чувствительность этой методики. | |
| dc.identifier.citation | О ВОЗМОЖНОСТИ КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕМЕНТОВ В ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ МАТЕРИАЛАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАЛОУГЛОВОГО LEIS [Text]. / НИКИТИН И.А. [et al.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: Сборник научных трудов XXVII конференфии. - 2023. - С. 126-128 | |
| dc.identifier.uri | https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/26567 | |
| dc.publisher | НИЯУ МИФИ | |
| dc.subject | Конференции НИЯУ МИФИ | |
| dc.title | О ВОЗМОЖНОСТИ КОЛИЧЕСТВЕННОГО АНАЛИЗА КОНЦЕНТРАЦИЙ ЭЛЕМЕНТОВ В ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ МАТЕРИАЛАХ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ МАЛОУГЛОВОГО LEIS | |
| dc.type | Article | |
| dspace.entity.type | Publication | |
| relation.isAuthorOfPublication | 595ff0d6-b88c-4119-ab49-7490fff47341 | |
| relation.isAuthorOfPublication | 80fa45c4-6d72-4001-98eb-50dcc5ab3a07 | |
| relation.isAuthorOfPublication | 53f66415-7067-406d-921c-2590fa6d3669 | |
| relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery | 595ff0d6-b88c-4119-ab49-7490fff47341 | |
| relation.isOrgUnitOfPublication | dcdb137c-0528-46a5-841b-780227a67cce | |
| relation.isOrgUnitOfPublication.latestForDiscovery | dcdb137c-0528-46a5-841b-780227a67cce |