Publication: ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК И ИХ УДАЛЕНИЕ В ЩЕЛЯХ И ЗАТЕНЕННЫХ ОТ ПЛАЗМЫ ОБЛАСТЯХ В ПРИСУТСТВИИ ВЧ-ПОЛЕЙ
Дата
2015
Авторы
ГУТОРОВ, К. М.
ВИЗГАЛОВ, И. В.
ПОДОЛЯКО, Ф. С.
СОРОКИН, И. А.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
Осаждение примесей внутри камеры термоядерной установки нежелательно по нескольким причинам: это изменение свойств поверхности при напылении на нее пленок, эрозия осажденных слоев с образованием пыли, повышенный захват изотопов водорода в осажденных слоях. Часто наблюдается осаждение примесей в щелях и теневых областях первой стенки, в том числе под элементами облицовки, в технологических зазорах и т.д. Такие примеси очень сложно определять и анализировать, также затруднена и очистка подобных участков. Стимулировать повышенное накопление примесей может присутствие ВЧ полей, появляющихся в результате особенностей протекания токов в плазме [1] или генерируемых антеннами для нагрева плазмы, использующимися во многих токамаках.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК И ИХ УДАЛЕНИЕ В ЩЕЛЯХ И ЗАТЕНЕННЫХ ОТ ПЛАЗМЫ ОБЛАСТЯХ В ПРИСУТСТВИИ ВЧ-ПОЛЕЙ [Текст.] / ГУТОРОВ К.М. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XVIII конференции. - 2015. - C. 102-105