Publication: ВЛИЯНИЕ НЕОДНОРОДНОСТИ КРИТИЧЕСКОГО ТОКА НА ПРОЦЕССЫ РАСПРОСТРАНЕНИЯ НОРМАЛЬНОЙ ЗОНЫ В НЕИЗОЛИРОВАННЫХ СВЕРХПРОВОДЯЩИХ ОБМОТКАХ
Файлы
Дата
2026
Авторы
МАРТИРОСЯН, И. В.
АЛЕКСАНДРОВ, Д. А.
АБИН, Д. А.
ОСПИОВ, М. А.
ПОКРОВСКИЙ, С. В.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
В работе представлена численная конечно-элементная модель нестационарных электромагнитно-тепловых процессов в неизолированных ВТСП обмотках галетного типа с учётом пространственной неоднородности критического тока. Показано влияние вариаций критического тока и межвиткового теплового и электрического контакта на характер развития квенча и распространение нормальной зоны в продольном и радиальном направлениях.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
ВЛИЯНИЕ НЕОДНОРОДНОСТИ КРИТИЧЕСКОГО ТОКА НА ПРОЦЕССЫ РАСПРОСТРАНЕНИЯ НОРМАЛЬНОЙ ЗОНЫ В НЕИЗОЛИРОВАННЫХ СВЕРХПРОВОДЯЩИХ ОБМОТКАХ / МАРТИРОСЯН И. В. [и др.] // Лазерные, плазменные исследования и технологии - ЛаПлаз-2026: сборник научных трудов XII Международной конференции. - 2026. - С. 271