Publication:
Effect of substrate biasing on deuterium retention in deuterium-tungsten co-deposited films at 380 K

Дата
2026
Авторы
Krat, S.
Kolodko, D. V.
Sorokin, I.
Efimov, N.
Prishvitsyn, A.
Lomonosov, G. S.
Kharkov, M. M.
Tumarkin, A.
Kaziev, A. V.
Gasparyan, Y.
Показать ещё 10
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Выпуск журнала
Аннотация
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Effect of substrate biasing on deuterium retention in deuterium-tungsten co-deposited films at 380 K / Krat, S. [et al.] // Journal of Nuclear Materials. - 2026. - 619. - 10.1016/j.jnucmat.2025.156264
URI
https://www.doi.org/10.1016/j.jnucmat.2025.156264
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-105021002058&origin=resultslist
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/41342
Коллекции
Публикации