Publication:
ТЕХНОЛОГИЯ PHEMT ГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs С ВАРИЗОННЫМИ КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ

dc.contributor.authorВиниченко, А. Н.
dc.contributor.authorВасильевский, И. С.
dc.contributor.authorГрехов, М. М.
dc.contributor.authorКаргин, Н. И.
dc.contributor.authorСтриханов, М. Н.
dc.contributor.authorВасильевский, Иван Сергеевич
dc.contributor.authorСтриханов, Михаил Николаевич
dc.date.accessioned2024-04-26T06:39:44Z
dc.date.available2024-04-26T06:39:44Z
dc.date.issued2012
dc.description.abstractДизайн гетероструктур А3В5 имеет достаточно много степеней свободы. Не только толщина и состав слоев, способ легирования, но и изменение профиля состава может обеспечить изменение зонной структуры и условий рассеяния носителей тока, улучшить параметры транзисторов. Использование варизонных слоев в РНЕМТ AlxGa1-xAs/ InyGa1-yAs структурах еще не освоено. Известно, что в транзисторных гетероструктурах сильное легирование и большая концентрация электронов в КЯ приводят к возникновению заметной асимметрии дна КЯ. Это отрицательно сказывается на подвижности двумерных электронов, так как, во-первых, эффективная ширина КЯ снижается, вследствие чего энергетический зазор между подзонами уменьшается, во-вторых, центроид двумерных электронов располагается ближе к ионизированным донорам. Варизонные слои InyGa1-yAs с неоднородным профилем состава y(z) обеспечивают дополнительный вклад в энергетические профили зон 'Еg(z) и 'ЕC(z), что может компенсировать электростатический вклад в формирование зонной диаграммы структур. Кроме того, неоднородное распределение InAs в РНЕМТ может расширить ограничения на псевдоморфный рост канала, а также снизить ударную ионизацию, по сравнении с однородной КЯ с высоким содержанием InAs. Цель работы состояла в реализации технологии варизонных РНЕМТ гетероструктур.
dc.identifier.citationТЕХНОЛОГИЯ PHEMT ГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs С ВАРИЗОННЫМИ КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ/ А.Н. Виниченко, И.С. Васильевский, М.М. Грехов, Н.И. Каргин, М.Н. Стриханов//Мокеровские чтения. Научно-практическая конференция по физике и технологии наногетероструктурной СВЧ-электроники, 12−13 мая 2012 г.: тезисы докладов. М.: НИЯУ МИФИ, 2012. – с. 22-23.
dc.identifier.urihttps://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/10190
dc.publisherНИЯУ МИФИ
dc.titleТЕХНОЛОГИЯ PHEMT ГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs С ВАРИЗОННЫМИ КВАНТОВЫМИ ЯМАМИ
dc.typeтезисы
dspace.entity.typePublication
relation.isAuthorOfPublication8ce84220-3c34-4278-83e7-c79be7660fe9
relation.isAuthorOfPublication85af5626-2b88-4006-9deb-f9293b0bdc4c
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery8ce84220-3c34-4278-83e7-c79be7660fe9
Файлы
Original bundle
Теперь показываю 1 - 1 из 1
Загружается...
Уменьшенное изображение
Name:
2012tes_22-23.pdf
Size:
212.88 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
License bundle
Теперь показываю 1 - 1 из 1
Загружается...
Уменьшенное изображение
Name:
license.txt
Size:
3.45 KB
Format:
Item-specific license agreed to upon submission
Description: