Персона: Лебединский, Юрий Юрьевич
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Лебединский
Имя
Юрий Юрьевич
Имя
5 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 5 из 5
- ПубликацияОткрытый доступИзлучение нанокластерных покрытий из оксида тантала при высоких температурах(2024) Бортко, Д. В.; Борисюк, П. В.; Шилов, В. А.; Васильев, О. С.; Лебединский, Ю. Ю.; Балахнев, К. М.; Лебединский, Юрий Юрьевич; Борисюк, Петр Викторович; Шилов, Владимир Александрович; Бортко, Диана Владимировна; Балахнёв, Кирилл Максимович; Васильев, Олег СтаниславовичПредставлены результаты формирования, аттестации морфологии поверхности и химического состава, а также итоги исследования излучения при нагреве до высоких температур (600–800°C) нанокластерных пленок Та2О5, полученных путем распыления Та мишени в атмосфере газов Ar и O2 с последующей фильтрацией образующихся кластеров по выбранным размерам и осаждением их на металлическую подложку (Та). Методом атомно-силовой микроскопии (in situ) получены изображения поверхности и показано, что пленки Ta обладают рыхлой структурой, состоящей из плотноупакованных наночастиц сферической формы. Анализ химического состава методом РФЭС показал, что полученные пленки обладают высокой чистотой и близки к соединению Та2О5. При помощи спектрометра, имеющего рабочий диапазон на 600–1700 нм, были получены спектры излучения пленок и подложки с естественным оксидом тантала при нагреве до различных температур. Показано, что пленки с размерами кластеров 2–3 нм обладают более стабильной излучательной способностью при изменяющейся температуре, чем пленки с большими кластерами (4–5 нм). Показано, что при разогреве до одинаковой температуры кластеры оксида тантала размерами менее 3 нм излучают более эффективно, чем подложка с естественной пленкой оксида тантала. Обсуждаются перспективы применения полученных структур в составе селективных излучателей для повышения эффективности термофотовольтаических систем.
- ПубликацияОткрытый доступСпектроскопическое исследование кристаллических пленок неона, выращенных на золотой подложке(2023) Курельчук, У. Н.; Борисюк, П. В.; Чубунова, Е. В.; Домашенко, М. С.; Каражанов, С. Ж.; Колачевский, Н. Н.; Лебединский, Ю. Ю.; Мызин, Д. А.; Николаев, А. В.; Ткаля, Е. В.; Ткаля, Евгений Викторович; Мызин, Дмитрий Анатольевич; Чубунова, Елена Витальевна; Борисюк, Петр Викторович; Лебединский, Юрий Юрьевич; Николаев, Александр Васильевич; Курельчук, Ульяна НиколаевнаПленка кристаллического неона была конденсирована на подложке из золота и измерен спектр характеристических потерь энергии обратно рассеянных электронов (СХПЭ) при температуре 5К. Также были теоретически исследовано конденсированное ГЦК-состояние неона методами теории функционала плотности и многочастичной теории возмущений, приближения случайных фаз и уравнения Бете−Салпетера. Теоретический спектр СХПЭ был рассчитан как в приближении независимых электронов, так и с учетом многочастичных эффектов – экранирования локального поля, появления электронно-дырочных пар и связанных состояний (экситонов). Получена ширина запрещенной зоны – 21.5 эВ. Показано, что в СХПЭ неона пики потерь энергии от 17.8 до 21.5 эВ являются чисто экситонными. Кристаллическая пленка неона, являясь широкозонным диэлектриком, рассматривается как перспективный материал для имплантации Th и изучения уникального ядерного перехода в 229Th с энергией 8.2 эВ.
- ПубликацияОткрытый доступALUMINIUM OXIDATION IN PLASMA OF ABNORMAL GLOW DISCHARGE(НИЯУ МИФИ, 2023) Pisarev, A. A.; Tarasyuk, G. M.; Borisyuk, P. V.; Isaenkova, M. G.; Lebedinskii, Yu. Yu.; Zaripova, M. M.; Исаенкова, Маргарита Геннадьевна; Писарев, Александр Александрович; Тарасюк, Григорий Михайлович; Борисюк, Петр Викторович; Лебединский, Юрий ЮрьевичAluminum oxide layers in all its various forms have become widespread due to the unique combination of properties that can be modified by varying the conditions of their growth. The alumina layer can either be applied to the substrate by chemical and physical methods or grown by oxidation. For practical purposes, layers of various thicknesses and structures are needed. The standard method for obtaining thick (of the order of 100-1000 nm) porous layer is electric arc anodization in weak electrolytes. The standard method for obtaining thin (about 10 nm) layers is thermal oxidation. Dense layers of intermediate thickness are difficult to obtain by such methods. There are few papers in the literature that investigate the possibility of obtaining oxide layers with a thickness of tens of nanometers by oxidizing aluminum in oxygen plasma [1-5]. The description of the kinetics of the oxidation process in those works was given on the basis of the assumption of the diffusion character of oxygen transfer from the surface into the interior of the metal. This approach is absolutely unsuitable for description the transport of oxygen and aluminum through the oxide layer, since both oxygen and aluminum in the oxide are in the form of ions, and an electric charge is formed on the surface of the dielectric facing the plasma, so that the transport of oxygen coming from the plasma must occur under by the action of an electric field in the oxide dielectric layer. In this work, experiments on plasma enhanced oxidation (PEO) were carried out on the oxidation of aluminum in the anomalous glow discharge oxygen plasma, which provides uniform treatment over the entire surface of samples of arbitrary shape. Also, a simple model was proposed for description of the oxidation kinetics, taking into account oxygen transport in the electric field.
- ПубликацияОткрытый доступИсследование оптических свойств нанокластерных пленок оксида тантала в инфракрасном диапазоне(2023) Бортко, Д. В.; Борисюк, П. В.; Шилов, В. А.; Васильев, О. С.; Лебединский, Ю. Ю.; Балахнев, К. М.; Балахнёв, Кирилл Максимович; Бортко, Диана Владимировна; Борисюк, Петр Викторович; Шилов, Владимир Александрович; Васильев, Олег Станиславович; Лебединский, Юрий ЮрьевичПредставлены результаты формирования, аттестации морфологии поверхности и исследования оптических свойств в ближнем и среднем ИК диапазоне нанокластерных пленок Та2О5, полученных путем термического оксидирования на атмосфере монодисперсных кластерных пленок металлического тантала, созданных на подложках кремния Si(001) методом магнетронного распыления. Методами атомно-силовой микроскопии (in situ) получены изображения поверхности и показано, что пленки Ta обладают пористой плотноупакованной структурой, состоящей из отдельных наночастиц сферической формы. При помощи спектрометра на ближний и средний ИК диапазон излучения исследованы оптические свойства полученных пленок. Показано, что тонкие пленки (толщиной менее 100 нм) имеют резкую границу между областью пропускания излучения и областью поглощения и/или отражения, тогда как для более толстых пленок данный эффект постепенно исчезает с ростом толщины кластерной пленки и не зависит от размера нанокластеров. Обсуждается возможность применения полученных структур в составе термофотоэлектрогенераторов с целью повышения их КПД.
- ПубликацияОткрытый доступИССЛЕДОВАНИЕ ЭВОЛЮЦИИ ЭЛЕКТРОННЫХ СВОЙСТВ НАНОКЛАСТЕРНЫХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ МЕТАЛЛОВ Ta И Mo, СФОРМИРОВАННЫХ С ПОМОЩЬЮ МЕТОДА МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ(НИЯУ МИФИ, 2017) Васильев, О. С.; Борисюк, П. В.; Козлова, Т. И.; Лебединский, Ю. Ю.; Борисюк, Петр Викторович; Лебединский, Юрий Юрьевич; Козлова, Татьяна Ивановна; Васильев, Олег СтаниславовичThe results of the study of electron properties evolution of monodisperse thin films consisted of Ta and Mo metal nanoclusters deposited onto the SiO2/Si(001) surface with magnetron sputtering method are presented. The changes in chemical composition and electron structure of the samples were controlled by means of X-ray photoelectron spectroscopy in the UHV analysis chamber of the Multiprobe MXPS RM VT AFM-25 surface analysis system. Susceptibility to oxidation after exposure to atmosphere was studied.