Персона:
Колодко, Добрыня Вячеславич

Загружается...
Profile Picture
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Статус
Фамилия
Колодко
Имя
Добрыня Вячеславич
Имя

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 10 из 37
  • Публикация
    Открытый доступ
    СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПОТОКОВ ИОНОВ ТВЕРДОГО ТЕЛА
    (Общество с ограниченной ответственностью "Пинч", 2023) Казиев, А. А.; Тумаркин, А. В.; Колодко, Д. В.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Тумаркин, Александр Владимирович
    Изобретение относится к области вакуумной и плазменной техники и может быть применено для осуществления процессов ионного травления материалов, имплантации ионов металлов и полупроводников, осаждения тонкопленочных покрытий. Технический результат - повышение содержания в плазме ионов твердого тела до 90-98%. Способ предусматривает формирование плазмы импульсного магнетронного разряда высокой мощности на предварительно разогретой мишени. Импульсный разряд с параметрами - напряжение до 2 кВ, ток 10-500 А, длительность 10-1000 мкс, частота повторения до 1 кГц - создается в предварительно ионизированном объеме над поверхностью нагретой мишени, отделенной теплоизолирующей подставкой с высокой электропроводностью. Нагрев мишени проводится в магнетронном разряде постоянного тока в аргоне с плотностью мощности выше 100 Вт/см2 до температуры, при которой давление насыщенных паров материала становится порядка или выше 0,5 Па, после чего подача аргона отключается, и разряд горит исключительно в парах материала мишени. Сформированный в этой среде импульсный магнетронный разряд характеризуется степенью ионизации плазмы выше 90% для широкого спектра материалов. 1 ил.
  • Публикация
    Открытый доступ
    УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК
    (НИЯУ МИФИ, 2023) Сорокин, И. А.; Колодко, Д. В.; Степанова, Т. В.; Степанова, Татьяна Владимировна; Колодко, Добрыня Вячеславич
    Изобретение относится к вакуумно-плазменной технике, а именно к источникам атомов металлов преимущественно для осаждения тонких металлических пленок на металлические или диэлектрические подложки в вакуумной камере. Технический результат - повышение скорости нанесения покрытий и упрощение конструкции устройства. Устройство для нанесения металлических пленок содержит вакуумную камеру, полый катод, мишень, держатель подложки, источник питания разряда положительным полюсом, соединенный с анодом, а отрицательным полюсом с катодом, а также дополнительный источник напряжения смещения. Полый катод устройства состоит из двух параллельных друг другу плоских электродов, размещенных относительно друг друга на расстоянии от 10 до 40 мм, первый электрод выполнен с возможностью водоохлаждения, при этом на его поверхности установлена мишень из распыляемого материала. Напротив первого электрода параллельно поверхности с установленной мишенью из распыляемого материала размещен второй электрод, выполненный из тугоплавкого материала в виде прозрачной сетки с ячейкой размерами от 10 мкм до 5 мм, за которым параллельно ему размещен держатель подложек на расстоянии до 100 мм. Анодом служат стенки вакуумной камеры, а дополнительный источник напряжения смещения положительным полюсом соединен с отрицательным полюсом источника питания разряда, а отрицательным полюсом с первым электродом катода. 2 ил.
  • Публикация
    Только метаданные
    Comparison of thermal properties of a hot target magnetron operated in DC and long HIPIMS modes
    (2021) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Tumarkin, A, V.; Kharkov, M. M.; Lisenkov, V. Y.; Sergeev, N. S.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович; Сергеев, Никита Сергеевич
    © 2021 Elsevier B.V.Thermal properties of the magnetron discharge with uncooled copper and chromium targets were studied experimentally and theoretically for DC and long HiPIMS (L-HiPIMS) operation modes. A set of thermal fluxes was considered to build a numerical model of the hot target exposed to DC and high-power pulsed plasma. The modeling results were tested in the experiments. The temperature of targets was measured directly in course of magnetron discharge operation with an elaborated contact thermocouple method. The measurements were made in two modes. At first the temporal evolution of temperature was recorded for a fixed applied discharge power. The results were found to well agree with temperature values expected from calculations. At 2 kW power, it takes ~50 s to reach the melting point of copper. The steady-state temperature values were also measured for a number of discharge power levels. The obtained dependence clearly demonstrated that the main mechanisms of the target heat balance at high temperatures are surface radiation and heat transfer due to thermal conductivity of the heat insulation supports between the target and water-cooled cathode. The parameters of DC hot target magnetron were compared to the high-power pulsed regime with the pulse-on time 20 ms. A promising method of a hot target magnetron discharge operation was considered that involves applying long (>20 ms) high-power pulses to the target pre-heated in the DC mode during the pulse-off period.
  • Публикация
    Только метаданные
    Properties of millisecond-scale modulated pulsed power magnetron discharge applied for reactive sputtering of zirconia
    (2021) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Sergeev, N. S.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сергеев, Никита Сергеевич
    The electrical properties of a modulated pulsed power (MPP) magnetron discharge were experimentally and theoretically studied in case of reactive sputtering of metallic zirconium target in argon/oxygen mixtures. The high-power pulsing was assisted by pre-ionization provided by a low-power direct current (DC) magnetron discharge filling the pulse-off period. The ranges of stable discharge operation parameters (applied voltage and oxygen flow rate) were determined for pulse-on time of 3 ms and pulse-off time 100-1000 ms. The maximum stable peak power density was 2.1 kW cm(-2). Strong dependence of the MPP discharge current waveforms on the pulse-off time was found, indicating the important role of the pre-ionizing DC discharge. In presence of oxygen, discharge peak current was observed with characteristic width up to 1.5 ms, followed by non-reactive-like plateau region. For theoretical treatment of the observed discharge current behavior, we modified the well-known Berg model of reactive sputtering by introducing the terms required for adequate description of time-dependent poisoning and sputtering processes. The reactive ion implantation term was also transformed to account for the process saturation at high ion current densities. Calculation results from the modified Berg model demonstrated good agreement between our experimental observations of discharge current evolution and target poisoning dynamics in the timescale of milliseconds.
  • Публикация
    Только метаданные
    Ion current optimization in a magnetron with tunable magnetic field configuration
    (2021) Kaziev, A. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Sergeev, N. S.; Kharkov, M. M.; Leonova, K. A.; Казиев, Андрей Викторович; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сергеев, Никита Сергеевич; Харьков, Максим Михайлович
    © 2021 Institute of Physics Publishing. All rights reserved.The response of the ion current in the substrate region to the magnetic system configuration of a circular magnetron was studied during direct current sputtering of aluminum target. The unbalancing degree induced by changing of magnets’ positions was modelled with finite element methods. The ion saturation current in the substrate region showed more than twofold variation with unbalancing degree in the range 0.6–1.2. The dependence was non-monotonic, and the system was optimized to maximize the substrate ion current. The Langmuir probe diagnostics showed plasma density ~ 1016 m–3 in the optimized magnetic configuration.
  • Публикация
    Открытый доступ
    ИССЛЕДОВАНИЕ СОСТАВА ИОННЫХ ПОТОКОВ ИЗ ПЛАЗМЫ МАГНЕТРОННОГО РАЗРЯДА В СРЕДЕ СМЕСЕЙ He/H2
    (НИЯУ МИФИ, 2024) ЛОМОНОСОВ, Г. С.; ХАРЬКОВ, М. М.; КОЛОДКО, Д. В.; НОВИКОВ, М. С.; КАЗИЕВ, А. В.; ОГОРОДНИКОВА, О. В.; Огородникова, Ольга Вячеславовна; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Харьков, Максим Михайлович; Ломоносов, Глеб Сергеевич
    Одна из проблем термоядерных установок – накопление трития в стенках и в диверторе токамаков, разрушение материала и образование выли в следствии облучения мощными потоками частиц из плазмы. Основные процессы происходящие при взаимодействии плазмы с поверхностью: распыление, захват, со-осаждение, нагрев, образование дефектов и пр. Большинство исследований направлены на изучение процесса накопления топлива и продуктов синтеза в материалах, обращённых к плазме, как основного процесса [1-3]. Однако, в ходе со-осаждения процесс накопление гелия и изотопов водорода меняет свой характер, что обуславливается дополнительным потоком материала стенок токомака. В области дивертора рассчитанная плотность потока нейтралов вольфрама ~3×1013 см–2с–1 при суммарном потоке ионов ~1×1017 см–2с–1 [4]. Исследования захвата дейтерия при осаждении в магнетронном разряде методом термодесорбционной спектроскопии проводились группой Крата [5]
  • Публикация
    Открытый доступ
    ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЕ НАБЛЮДЕНИЯ СПОНТАННОГО ИНИЦИИРОВАНИЯ ИМПУЛЬСОВ ДУГОВЫХ РАЗРЯДОВ ПРИ ВЗАИМОДЕЙСТВИИ ГЕЛИЕВОЙ ПЛАЗМЫ СО СЛОЯМИ ВОЛЬФРАМОВЫХ НАНОВОЛОКОН
    (НИЯУ МИФИ, 2024) КУКУШКИНА, М. С.; КАЗИЕВ, А. В.; КОЛОДКО, Д. В.; ХАРЬКОВ, М. М.; РЫКУНОВ, И. Г.; ЦВЕНТУХ, М. М.; Харьков, Максим Михайлович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Казиев, Андрей Викторович; Кукушкина, Маргарита Сергеевна
    При повышении пристеночного потенциала гелиевой плазмы, воздействующей на поверхность вольфрама, рост наноструктуры волокон вольфрама сменяется распылением, при этом спонтанно (без внешнего триггера) инициируются «пробои» - импульсы взрывной электронной эмиссии [1-3].
  • Публикация
    Только метаданные
    Etching of "Microwire-on-Insulator"-Type Structures
    (2022) Shustin, E. G.; Kolodko, D. V.; Luzanov, V. A.; Mirgorodskaya, E. N.; Sorokin, I. A.; Колодко, Добрыня Вячеславич; Сорокин, Иван Александрович
  • Публикация
    Открытый доступ
    ИССЛЕДОВАНИЕ БОР-ЛИТИЕВОГО КОМПОЗИТА ПОД ДЕЙСТВИЕМ МОЩНЫХ ТЕПЛОВЫХ И ИОННО-ПЛАЗМЕННЫХ НАГРУЗОК
    (НИЯУ МИФИ, 2022) СЕЛИВАНОВ, Р. А.; СОРОКИН, И. А.; КРАТ, С. А.; СЕРГЕЕВ, Н. С.; КОЛОДКО, Д. В.; ПОДОЛЯКО, Ф. С.; ФЕФЕЛОВА, Е. А.; ВОЛКОВА, О. В.; ЗАХАРОВ, В. В.; Подоляко, Федор Сергеевич; Селиванов, Ростислав Алексеевич; Сорокин, Иван Александрович; Сергеев, Никита Сергеевич; Крат, Степан Андреевич; Колодко, Добрыня Вячеславич
    Выбор материала обращённых к плазме элементов (ОПЭ) термоядерной установки – ключевой вопрос, определяющий её работоспособность. Одним из перспективных материалов является литий, использование которого предполагается в рамках концепции жидкометаллической стенки термоядерной установки. Преимущества лития по сравнению с другими материалами состоят в его минимально возможном атомном номере (Z=3), хорошей совместимости с водородной плазмой, низкой энергией ионизации, широким диапазоном температур, в котором он может применяться (от температуры плавления ~180 °С до ~ 1000 °С). Эксперименты на токамаках с жидколитиевыми ОПЭ показали положительные эффекты применения лития на термоядерную плазму (уменьшение водородного рециклинга, уменьшение эффективного заряда плазмы, подавление нестабильностей). Из всех существующих технологических решений, связанных с применением лития, наиболее развитым является использование капиллярно-пористых систем (КПС), наполненных литием, в качестве ОПЭ. При соблюдении условия хорошей смачиваемости, правильном выборе материала и конструкции матрицы, КПС с жидким литием способны выдерживать тепловые нагрузки ~ 10 МВт/м2. К недостаткам существующих КПС следует отнести сложность в их обслуживании, невозможность ремонта в случае локального разрушения матрицы, например в случае локального истощения лития, большой атомный номер тугоплавких металлов, используемых в качестве материала матрицы.