Персона:
Мамедов, Никита Вадимович

Загружается...
Profile Picture
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт физико-техничеcких интеллектуальных систем
Институт физико-технических интеллектуальных систем впервые в стране обеспечивает комплексную подготовку специалистов по созданию киберфизических устройств и систем самого различного назначения – основного вида технических устройств середины 21 века. ИФТИС реализует «дуальную» модель образования, в рамках которой направляет студентов на стажировку и выпускников для трудоустройства на передовые предприятия, занятые созданием инновационных киберфизических продуктов, в первую очередь, на предприятия ГК «Росатом». Основным индустриальным партнером ИФТИС является ведущее предприятие ГК «Росатом» — ФГУП «ВНИИА им. Н.Л. Духова».
Статус
Фамилия
Мамедов
Имя
Никита Вадимович
Имя

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 10 из 17
  • Публикация
    Открытый доступ
    ESTIMATES OF He+ SCATTERED FROM THE SURFACE SURVIVAL PROBABILITY USING BINARY COLLISIONS CODES
    (НИЯУ МИФИ, 2019) Mamedo, N. V.; Kurnaev, V. A.; Sinelnikov, D. N.; Mamedov, I. M.; Синельников, Дмитрий Николаевич; Мамедов, Никита Вадимович
    Low-energy (1-20 keV) ion scattering spectroscopy is the widespread method of surface analysis [1,2]. The surface layer composition can be reconstructed from narrow peaks in the energy spectra of the scattered inert gas ions and recoil ions [3]. The main advantage of the surface analysis using inert gas ions is the high sensitivity to the first layer of surface atoms. This is due to the low initial energy of the ions (and therefore small ion penetration depth) and the high neutralization probability of the reflected ions, which increases with the penetration depth of the incident particle into the solid [3]. However, for quantitative surface analysis, it is extremely important to determine the neutralization probability (or the probability of ion survival), since this method usually detects reflected ions only.
  • Публикация
    Открытый доступ
    ОЦЕНКА РАСПЫЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОДОВ В МИНИАТЮРНОМ ЛИНЕЙНОМ УСКОРИТЕЛЕ
    (НИЯУ МИФИ, 2021) Каньшин, И. А.; Мамедов, Н. В.; Солодовников, А. А.; Ефимов, Н. Е.; Мамедов, Никита Вадимович; Ефимов, Никита Евгеньевич
    In this paper estimation of the electrodes sputtering of the miniature linear accelerator (MLA) are presented. Also, the experimental area of the deposited metal layer on the insulator surface MLA are shown. The experimental dates are in good qualitatively agreement with the simulated ones.
  • Публикация
    Открытый доступ
    LEIS ANALYSIS OF THE W SURFACE DURING WATER VAPOR ADSORPTION
    (НИЯУ МИФИ, 2017) Mamedov, N. V.; Kurnaev, V. A.; Sinelnikov, D. N.; Kolodko, D. V.; Sorokin, I. A.; Мамедов, Никита Вадимович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Синельников, Дмитрий Николаевич; Сорокин, Иван Александрович
    The adsorption of water on the surface is one of the main problems in vacuum technology. Since water is a good adsorbent, its adsorption is the reason that prevents the fast pumping of vacuum systems up to ultra-high vacuum. In addition, water vapor adsorption on metal surfaces during plasma surface interaction is a problem [1]. Singly scattered and recoil ions could form narrow peaks in energy spectra and provide information about atomic composition of the first atomic layer giving information about structure and composition of the surface and very sensitivity to the first layer of atoms [2 -5]. It was also shown [6] that the thickness of light element thin layers on the heavy substrate can be analyzed with good depth resolution (~0,3nm) due to scattering of hydrogen ions with keV energies. Application of ion scattering spectroscopy at pressures up to several mTorr is presented in [7, 8]. In this work experimental results of low energy ion spectroscopy (LEIS) of W samples during water vapor adsorption are presented.
  • Публикация
    Только метаданные
    Characteristics of miniature pulsed penning ion source: Experiment and PIC simulation
    (2019) Mamedov, N.V.; Rohmanenkov, A.S.; Zverev, V.I.; Maslennikov, S.P.; Yurkov, D.I.; Мамедов, Никита Вадимович; Зверев, Владимир Игоревич; Масленников, Сергей Павлович; Юрков, Дмитрий Игоревич
    In the present work, the results of the experimental and particle in cell (PIC) simulation studies of the discharge combustion modes in a miniature Penning ion source (PIS) under the pulse-periodic power supply conditions are presented. Dynamics of discharge ignition and discharge operation mode at a pulsed anode voltage supply are investigated for different values of anode voltage and gas pressure in various magnetic field configurations. Typical examples of current pulse waveforms are shown. Also, numerical simulations of the PIS were performed using 3D PIC combined with Monte Carlo collisions in the code VSim. Temporal dependencies of electron, ion, and potential distributions in the Penning cell are simulated. Differences between the numerical and experimental results are discussed. Published under license by AIP Publishing.
  • Публикация
    Только метаданные
    Estimation of the electrodes sputtering of the miniature linear accelerator
    (2022) Kanshin, I. A.; Solodovnikov, A. A.; Mamedov, N. V.; Efimov, N. E.; Мамедов, Никита Вадимович; Ефимов, Никита Евгеньевич
    © 2022 Elsevier LtdIn this paper, electrode sputtering of the miniature linear accelerator (MLA)is investigated. The main part of this study is numerical simulations of the deposited metal layers formation on the insulator. It consist of three parts: ion beam trajectory analysis in MLA using COMSOL Multiphysics, simulations of surface sputtering by BCA codes (SRIM, SDTrimSP, and SCATTER) and sputtered particles trajectory analysis in MLA using COMSOL Multiphysics. The main sources of deposited particles are identified using numerical simulations of the surface sputtering by the ions extracted from the Penning ion source (PIS) and charge-exchange neutrals originated inside the ion-optical system (IOS) and subsequent analysis of the sputtered particle trajectories. Experimental data were obtained by digitizing MLA photos during operation by ImageJ software. Simulations of the electrodes sputtering of MLA were performed. The simulations allowed to determine the erosion zones responsible for the deposited metal layer formation on the insulator surface. The experimental data are in good qualitative agreement with the simulated ones.
  • Публикация
    Открытый доступ
  • Публикация
    Только метаданные
    Plasma behavior in e×h pulse discharge
    (2020) Rohmanenkov, A.; Solodovnikov, A.; Mamedov, N.; Maslennikov, S.; Sorokin, I.; Kolodko, D.; Мамедов, Никита Вадимович; Масленников, Сергей Павлович; Сорокин, Иван Александрович; Колодко, Добрыня Вячеславич
    © 2020 IEEE.The paper presents the results of experiments and PIC (particle-in-cell) simulations of ignition characteristics of miniature pulsed penning ion source. Also the dependence of the discharge current pulse on the gas pressure and magnetic field are presented. Plasma behavior (electron and ion density in axial and radial dimensional) depending on magnitude (and configuration) of the magnetic field and pressure (working gas is deuterium) was shown.
  • Публикация
    Открытый доступ
    ЭМИССИОННЫЕ СВОЙСТВА МОДЕЛЬНОГО МАТЕРИАЛА СТЕНКИ ТЯР С ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ ПЛЕНКОЙ
    (НИЯУ МИФИ, 2014) СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н.; КУРНАЕВ, В. А.; МАМЕДОВ, Н. В.; ДВОРНОВА, A. A.; КОЛОДКО, Д. В.; Мамедов, Никита Вадимович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Синельников, Дмитрий Николаевич
    Измерение эмиссионных свойств с материалов, покрытых тонкими ди-электрическими пленками, является актуальным, поскольку одним из кандидатных материалов ТЯР является бериллий, на поверхности которо-го легко образуется оксидная диэлектрическая пленка. Поскольку берил-лий ядовит, то в качестве модельного материала вместо него в имитаци-онных экспериментах часто используется алюминий. Например, тонкая (4–10 нм) оксидная пленка на поверхности алюминиевого электрода зна-чительно повышает его эмиссионную способность, поскольку не только повышается коэффициент вторичной эмиссии, но и создаются условия для полевой эмиссии [1]. Усиление эмиссии объяснялось изменением толщины этой пленки при конкуренции процессов распыления и образо-вания оксида. Все это приводит к образованию поверхностно плазменных неустойчивостей.
  • Публикация
    Открытый доступ
    МОДИФИКАЦИЯ НАНОСТРУКТУРИРОВАННОЙ ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ПРИ ОБЛУЧЕНИИ ИОННЫМ ПУЧКОМ
    (НИЯУ МИФИ, 2015) СИНЕЛЬНИКОВ, Д. Н.; КУРНАЕВ, В. А.; МАМЕДОВ, Н. В.; Мамедов, Никита Вадимович; Синельников, Дмитрий Николаевич
    При облучении разогретой до Т ~ 1500 K поверхности вольфрама потоками гелия ~1025 м-2 возможно значительное изменение её рельефа за счет образования в приповерхностном слое тонких волокнистых структур, похожих на пух [1]. Такая модификация поверхности приводит к значительному изменению ее свойств, что отражается на процессах взаимодействия плазмы с поверхностью. В ряде работ показано, что с покрытой "пухом" поверхности более высокая вероятность зажигания униполярной дуги [2], которая является источником загрязнения плазмы микрочастицами. Также при достаточной напряженности электрического поля с таких вольфрамовых катодов наблюдаются более высокая плотность токаполевой эмиссии по сравнению с чистой поверхностью. В некоторых работах [3] показано, что предпробойные токи могут являться начальной стадией зажигания униполярной дуги. Интенсивность предпробойных токов сильно зависит от рельефа поверхности, на острых элементах которого электрическое поле может значительно усиливаться. Поскольку по мере роста "пуха" и его распыления поверхность претерпевает ряд модификаций рельефа, то представляет интерес исследование предпробойных токов по мере ее изменения.
  • Публикация
    Только метаданные
    Validating a Computational Model of Target Sputtering in a Miniature Linear Accelerator
    (2024) Mamedov, I. M.; Kanshin, I. A.; Lobov, M. S.; Mamedov, N. V.; Мамедов, Никита Вадимович