Publication:
Ultra-thin and thin CrSi films on Si(111): I. Formation and crystal structure

Дата
2024
Авторы
Galkin, N. G.
Galkin, K. N.
Kropachev, O. V.
Dotsenko, S. A.
Migas, D. B.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Выпуск журнала
Аннотация
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Ultra-thin and thin CrSi films on Si(111): I. Formation and crystal structure / Galkin, N. G. [et al.] // Journal of Materials Chemistry C. - 2024. - 10.1039/d4tc03122a
URI
https://www.doi.org/10.1039/d4tc03122a
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85212529050&origin=resultslist
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/37443
Коллекции
Публикации