Publication:
Local laser annealing of 3C-SiC film deposited on the silicon substrate by CVD

Дата
2019
Авторы
Mikhalik, M. M.
Avramchuk, A. V.
Komissarov, I. V.
Yu, Fominski, V.
Romanov, R. I.
Sultanov, A. O.
Siglovaya, N. V.
Ryndya, S. M.
Gusev, A. S.
Labunov, V. A.
Показать ещё 9
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
OrgUnit Logo
Организационная единица
Инженерно-физический институт биомедицины
Цель ИФИБ и стратегия развития – это подготовка высококвалифицированных кадров на базе передовых исследований и разработок новых перспективных методов и материалов в области инженерно-физической биомедицины. Занятие лидерских позиций в биомедицинских технологиях XXI века и внедрение их в образовательный процесс, что отвечает решению практикоориентированной задачи мирового уровня – диагностике и терапии на клеточном уровне социально-значимых заболеваний человека.
OrgUnit Logo
Организационная единица
Другие подразделения НИЯУ МИФИ
Структурные подразделения НИЯУ МИФИ, не включенные в состав институтов и факультетов.
Выпуск журнала
Аннотация
© Published under licence by IOP Publishing Ltd. In this work, we try to suite an approach, which concerns of epitaxial graphene growth by laser irradiation of 3C-SiC (111) film deposited on silicon substrate (111) by chemical vapor deposition method. Laser treatment was performed by pulsed 1064 nm laser with 20 Hz repetition rate and 15 ns pulse duration, the fluency was varied 0-1.5 J/cm 2 . Raman spectroscopy studies show that for fluence above 0.8 J/cm 2 2D band is noticeable revealing formation of high crystallographic quality graphitic (graphene) film.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Local laser annealing of 3C-SiC film deposited on the silicon substrate by CVD / Mikhalik, M.M. [et al.] // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. - 2019. - 475. - № 1. - 10.1088/1757-899X/475/1/012036
URI
https://www.doi.org/10.1088/1757-899X/475/1/012036
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85062715886&origin=resultslist
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/16670
Коллекции
Публикации