Publication:
ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ГАЗОВОЙ ПОРИСТОСТИ ПО ГЛУБИНЕ ОБРАЗЦОВ ВАНАДИЕВЫХ СПЛАВОВ МАЛОАКТИВИРУЕМЫХ КОМПОЗИЦИЙ ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ГЕЛИЯ И ВОДОРОДА

Дата
2019
Авторы
КАЛИН, Б. А.
СТАЛЬЦОВ, М. С.
ЧЕРНОВ, И. И.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт ядерной физики и технологий
Цель ИЯФиТ и стратегия развития - создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области ядерной физики и технологий, радиационного материаловедения, физики элементарных частиц, астрофизики и космофизики.
Выпуск журнала
Аннотация
В работе изучена микроструктура и особенности распределения газовых пузырьков по глубине образцов в ванадиевых сплавов с Cr, W, Ta и Zr после имплантации ионами Не+ с энергией 40 кэВ до флюенса 5 1020 м-2 при 650 ⁰С и имплантации Не+ в тех же условиях и дополнительном облучении ионами Н+ с энергией 25 кэВ до 5 1020 м-2 при 20 ⁰С. Изучение микроструктуры проводилось с помощью ПЭМ после препарирования образцов по методике фокусированного ионного пучка (ФИБ) перпендикулярно облученной поверхности.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
КАЛИН Б. А. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ГАЗОВОЙ ПОРИСТОСТИ ПО ГЛУБИНЕ ОБРАЗЦОВ ВАНАДИЕВЫХ СПЛАВОВ МАЛОАКТИВИРУЕМЫХ КОМПОЗИЦИЙ ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ГЕЛИЯ И ВОДОРОДА [Text.] / КАЛИН Б. А., СТАЛЬЦОВ М. С., ЧЕРНОВ И. М. //Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXII конференции. - 2019. - С. 67-68