Publication: МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИИ PHEMT НАНОГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs
dc.contributor.author | Васильевский, И. С. | |
dc.contributor.author | Виниченко, А. Н. | |
dc.contributor.author | Галиев, Г. Б. | |
dc.contributor.author | Грехов, М. М. | |
dc.contributor.author | Щербачев, К. Д. | |
dc.contributor.author | Сарайкин, В. Д. | |
dc.contributor.author | Лаврухин, Д. В. | |
dc.contributor.author | Каргин, Н. И. | |
dc.contributor.author | Стриханов, М. Н. | |
dc.contributor.author | Васильевский, Иван Сергеевич | |
dc.contributor.author | Стриханов, Михаил Николаевич | |
dc.contributor.author | Виниченко, Александр Николаевич | |
dc.contributor.author | Каргин, Николай Иванович | |
dc.contributor.author | Щербачев, Олег Вячеславович | |
dc.date.accessioned | 2024-04-26T07:57:53Z | |
dc.date.available | 2024-04-26T07:57:53Z | |
dc.date.issued | 2012 | |
dc.description.abstract | РНЕМТ AlxGa1-xAs/InyGa1-yAs гетероструктуры являются одним из самых широко используемых базовых материалов в СВЧ электронике для создания транзисторов и монолитных интегральных схем (МИС). Данные структуры содержат большое число слоев, как основных, так и вспомогательных, из твердых растворов AlxGa1-xAs и InyGa1-yAs. Для получения требуемой зонной структуры и характеристик образцов необходимо жестко контролировать состав и толщину данных слоев. Цель работы состояла в реализации технологии РНЕМТ гетероструктур с использованием методов нанометрологии, обеспечивающими точность и воспроизводимость технологических параметров не хуже 95%. Для роста на установке МЛЭ Riber Compact 21T использовались импортные ОСЧ металлы производства Azelis Electronics. Предельный вакуум в камере роста при замороженных криопанелях и с перекрытым потоком As4 составлял до 1-2х10-11 Торр. Одним из важных факторов получения стабильной и воспроизводимой скорости роста, состава и толщины слоев РНЕМТ гетероструктур являлось получение долговременной стабильности потоков и учет быстрых переходных процессов при открытии заслонок. | |
dc.identifier.citation | МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИИ PHEMT НАНОГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs//Мокеровские чтения. Научно-практическая конференция по физике и технологии наногетероструктурной СВЧ-электроники, 12−13 мая 2012 г.: тезисы докладов. М.: НИЯУ МИФИ, 2012. – с. 61-62. | |
dc.identifier.uri | https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/10200 | |
dc.publisher | НИЯУ МИФИ | |
dc.title | МЕТРОЛОГИЧЕСКОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИИ PHEMT НАНОГЕТЕРОСТРУКТУР AlGaAs/InGaAs/GaAs | |
dc.type | тезисы | |
dspace.entity.type | Publication | |
relation.isAuthorOfPublication | 8ce84220-3c34-4278-83e7-c79be7660fe9 | |
relation.isAuthorOfPublication | 85af5626-2b88-4006-9deb-f9293b0bdc4c | |
relation.isAuthorOfPublication | 635fa0fa-6e40-44e3-ba36-c309ec64c497 | |
relation.isAuthorOfPublication | b63cacca-2813-4dee-964b-26cdc4e09e74 | |
relation.isAuthorOfPublication | 484b2e5a-6d2a-4df4-8fce-b41a18435350 | |
relation.isAuthorOfPublication | 71228128-3e3c-49a2-a489-10687428779d | |
relation.isAuthorOfPublication | 1a5d7bf9-ea82-44cb-af1e-7c1aed590ac6 | |
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery | 8ce84220-3c34-4278-83e7-c79be7660fe9 |