Publication: Исследование in situ динамики взаимодействия мощных потоков ВУФ излучения с поверхностью диэлектрического зеркала
Дата
2025
Авторы
Скрябин, А. С.
Телех, В. Д.
Павлов, А. В.
Новиков, П. А.
Пушкин, Д. Б.
Journal Title
Квантовая электроника
Journal ISSN
Volume Title
Квантовая электроника
Издатель
Аннотация
С использованием метода in situ лазерного зондирования поверхности выполнено исследование взаимодействия широкополосного мощного излучения от импульсного сильноточного разряда в фоновых газовых средах (Ar, воздух) с поверхностью модельного образца диэлектрического зеркала (ZrO2/SiO2). Источники на основе импульсных сильноточных (I > 100 кА) плазмодинамических разрядов позволяют генерировать радиационные потоки высокояркостного излучения, в том числе и вакуумного ультрафиолетового (ВУФ) диапазона спектра. Изменение состава фонового газа позволяет организовать радиационную перестройку спектра, управляя коротковолновой границей излучения. Характерные значения интегральной (во всем спектре) плотности потока лучистой энергии на расстоянии 78.6 см от оси источника в реализованных условиях составляют от ~14 – 25 кВт/см2 (разряды в воздухе) до ~37 – 112 кВт/см2 (разряды в аргоне). Полученные результаты свидетельствуют о протекании вблизи облучаемого зеркала определенных газодинамических процессов (испарение, образование плазменного слоя и др.), чья интенсивность достигала максимума за время 12 – 15 мкс и что подтверждалось экранированием сканирующего пучка лазера. Показано, что характерное время излучения плазменного потока над поверхностью составляло ~30 – 40 мкс.
Описание
Ключевые слова
Диэлектрическое зеркало , Деградационные процессы , Плазмодинамические разряды , Вакуумный ультрафиолет
Цитирование
Исследование in situ динамики взаимодействия мощных потоков ВУФ излучения с поверхностью диэлектрического зеркала / Скрябин А. С. [и др.] // Квантовая электроника.- 2025.-55.-2.- С. 128-132