Publication:
Ion implantation of helium and hydrogen in boron coatings

Дата
2020
Авторы
Karpikov, A. N.
Larionov, A. S.
Dikov, A. S.
Akaev, S. O.
Kislitsin, S. B.
Chernov, I. I.
Staltsov, M. S.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт ядерной физики и технологий
Цель ИЯФиТ и стратегия развития - создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области ядерной физики и технологий, радиационного материаловедения, физики элементарных частиц, астрофизики и космофизики.
Выпуск журнала
Аннотация
© Published under licence by IOP Publishing Ltd.The work presents the calculated mean free paths of hydrogen, deuterium and helium ions in boron-carbon and boron-titanium films of various configurations. Has been rated impact of these coatings at various film thicknesses for ion capture in tungsten. The calculations were carried out using the software package SRIM-2012, for each mileage value was calculated by modeling of10,000 cascades.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Ion implantation of helium and hydrogen in boron coatings / Karpikov, A.N. [et al.] // IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. - 2020. - 1005. - № 1. - 10.1088/1757-899X/1005/1/012005
Коллекции