Publication: МОЛЕКУЛЯРНОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ОБЛУЧЕНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ГЕЛИЕМ ПОВЫШЕННОЙ ЭНЕРГИИ
Дата
2023
Авторы
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
В настоящее время вольфрам рассматривается в качестве одного из основных материалов обращенных к плазме элементов (ОПЭ) будущих термоядерных. Вольфрам характеризуются высокой температурой плавления, низким захватом изотопов водорода, но подвержен структурным изменениям при облучении поверхности гелием низкой энергии (20 – 100 эВ). Облучение вольфрама гелием ведет к росту наноструктур, известных как вольфрамовый пух [1]. На данный момент условия образования и свойства вольфрамового пуха достаточно подробно изучены в случае низкоэнергетичного облучения поверхности [2], т.е. когда разность потенциалов между плазменным источником и вольфрамовой мишенью мала. Однако при высокой разности потенциалов (> 100 эВ) возможно спонтанное инициирование взрывоэмиссионных всплесков и зажигание униполярных дуг [3,4], что крайне нежелательно ввиду повышения эрозии материала, обращенного к плазме. В таких условиях развитие морфологии протекает в переходном режиме рост-распыление, который недостаточно подробно изучен, поэтому требуются дополнительные исследования как первых этапов, при которых происходит кластеризация гелия, так и поздних фаз развития морфологии поверхности, когда возможно инициирование спонтанных взрывоэмиссионных импульсов на наноструктурированной поверхности.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
КУЛАГИН В.В. МОЛЕКУЛЯРНОДИНАМИЧЕСКОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ОБЛУЧЕНИЯ ПОВЕРХНОСТИ ВОЛЬФРАМА ГЕЛИЕМ ПОВЫШЕННОЙ ЭНЕРГИИ [Text]. / КУЛАГИН В.В., ЦВЕНТУХ М.М., ГАСПАРЯН Ю.М. // Взаимодействие плазмы с поверхностью: Сборник научных трудов XXVII конференфии. - 2023. - С. 133-136