Publication:
Evidence of 1000 eV positive oxygen ion flux generated in reactive HiPIMS plasma

Дата
2023
Авторы
Kolodko, D. V.
Ageychenkov, D. G.
Lisenkov, V. Y.
Kaziev, A. V.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
The arrival of highly energetic (near 1000 eV) positive atomic oxygen ions at the substrate region has been detected in a unipolar reactive high-power impulse magnetron sputtering process operated with an uncooled copper target in argon-oxygen mixtures. Examination of the ion fluxes from discharge plasma was performed with a magnetic sector mass-spectrometer and an electrostatic energy analyzer. The energy of fast positive O+ ions is close to the value of eV (d) (e-elementary charge, V (d)-discharge voltage), which indicates their connection to the well-studied fraction of negative O- ions, which undergo acceleration in the cathode sheath. After switching the oxygen gas supply off, the flux of energetic O+ species decreases gradually as the poisoned target surface layers become depleted of oxygen due to sputtering in pure argon. Presumably, the observed energetic O+ ions originate as a result of low-angle scattering of fast negative O- ions from other charged or neutral species in the plasma followed by electron detachment, ionization, or charge exchange.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Evidence of 1000 eV positive oxygen ion flux generated in reactive HiPIMS plasma / Kolodko, D.V. [et al.] // PLASMA SOURCES SCIENCE and TECHNOLOGY. - 2023. - 32. - № 6. - 10.1088/1361-6595/acda5b
URI
https://www.doi.org/10.1088/1361-6595/acda5b
 http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=Alerting&SrcApp=Alerting&DestApp=WOS_CPL&DestLinkType=FullRecord&UT=WOS:001005708300001
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/29255
Коллекции
Публикации