Publication:
ИЗУЧЕНИЕ ВЛИЯНИЯ ДОЗЫ ИМПЛАНТАЦИИ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ P-N-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ КАРБИДА КРЕМНИЯ

Простая страница элемента
dc.contributor.advisorКаргин, Н. И.
dc.contributor.authorБорисова, А. В.
dc.date.accessioned2025-02-13T10:04:01Z
dc.date.available2025-02-13T10:04:01Z
dc.date.issued2015
dc.descriptionУровень образования: специалитет; Код направления/специальности: 010501; Группа: Т10-67Б
dc.description.abstractВ ходе данной дипломной работы были исследованы электрофизические характеристики p-n-структур на основе карбида кремния ионно-легированного бором. На основе полученных данных были проведены: -измерения вольт-амперных характеристик ионно-легированных структур на основе карбида кремния; -определено напряжение пробоя и напряжение, при котором открываются p-n-диоды; -рассчитана концентрация примеси бора в ионно-легированных структурах карбида кремния с использованием программного пакета TRIM; -посчитан коэффициент активации внедренной примеси бора. Отчет по дипломной работе изложен на 51 странице, содержит 5 таблиц и 22 рисунка, список использованных источников состоит из 32 наименований.
dc.identifier.citationБорисова, А. В. ИЗУЧЕНИЕ ВЛИЯНИЯ ДОЗЫ ИМПЛАНТАЦИИ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ P-N-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ КАРБИДА КРЕМНИЯ : Выпускная квалификационная работа, специалитет, 010501 / А. В. Борисова ; рук. работы Каргин Николай Иванович, 2015
dc.identifier.urihttps://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/36477
dc.languageruru
dc.subjectВКР
dc.subjectВыпускная квалификационная работа
dc.titleИЗУЧЕНИЕ ВЛИЯНИЯ ДОЗЫ ИМПЛАНТАЦИИ НА ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ P-N-СТРУКТУР НА ОСНОВЕ КАРБИДА КРЕМНИЯ
dc.typeВКР
dspace.entity.typePublication
Файлы
Коллекции
Выпускные квалификационные работы