Персона: Борисюк, Петр Викторович
Загружается...
Email Address
Birth Date
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Руководитель научной группы "Фундаментальные основы инженерии тонких пленок и гетероструктур для создания перспективных технологий в сфере высокоэффективной энергетики"
Руководитель научной группы "Квантовая гравиметрия на основе стандартов времени и частоты"
Руководитель научной группы "Квантовая гравиметрия на основе стандартов времени и частоты"
Фамилия
Борисюк
Имя
Петр Викторович
Имя
2 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 2 из 2
- ПубликацияОткрытый доступИзлучение нанокластерных покрытий из оксида тантала при высоких температурах(2024) Бортко, Д. В.; Борисюк, П. В.; Шилов, В. А.; Васильев, О. С.; Лебединский, Ю. Ю.; Балахнев, К. М.; Лебединский, Юрий Юрьевич; Борисюк, Петр Викторович; Шилов, Владимир Александрович; Бортко, Диана Владимировна; Балахнёв, Кирилл Максимович; Васильев, Олег СтаниславовичПредставлены результаты формирования, аттестации морфологии поверхности и химического состава, а также итоги исследования излучения при нагреве до высоких температур (600–800°C) нанокластерных пленок Та2О5, полученных путем распыления Та мишени в атмосфере газов Ar и O2 с последующей фильтрацией образующихся кластеров по выбранным размерам и осаждением их на металлическую подложку (Та). Методом атомно-силовой микроскопии (in situ) получены изображения поверхности и показано, что пленки Ta обладают рыхлой структурой, состоящей из плотноупакованных наночастиц сферической формы. Анализ химического состава методом РФЭС показал, что полученные пленки обладают высокой чистотой и близки к соединению Та2О5. При помощи спектрометра, имеющего рабочий диапазон на 600–1700 нм, были получены спектры излучения пленок и подложки с естественным оксидом тантала при нагреве до различных температур. Показано, что пленки с размерами кластеров 2–3 нм обладают более стабильной излучательной способностью при изменяющейся температуре, чем пленки с большими кластерами (4–5 нм). Показано, что при разогреве до одинаковой температуры кластеры оксида тантала размерами менее 3 нм излучают более эффективно, чем подложка с естественной пленкой оксида тантала. Обсуждаются перспективы применения полученных структур в составе селективных излучателей для повышения эффективности термофотовольтаических систем.
- ПубликацияОткрытый доступИсследование оптических свойств нанокластерных пленок оксида тантала в инфракрасном диапазоне(2023) Бортко, Д. В.; Борисюк, П. В.; Шилов, В. А.; Васильев, О. С.; Лебединский, Ю. Ю.; Балахнев, К. М.; Балахнёв, Кирилл Максимович; Бортко, Диана Владимировна; Борисюк, Петр Викторович; Шилов, Владимир Александрович; Васильев, Олег Станиславович; Лебединский, Юрий ЮрьевичПредставлены результаты формирования, аттестации морфологии поверхности и исследования оптических свойств в ближнем и среднем ИК диапазоне нанокластерных пленок Та2О5, полученных путем термического оксидирования на атмосфере монодисперсных кластерных пленок металлического тантала, созданных на подложках кремния Si(001) методом магнетронного распыления. Методами атомно-силовой микроскопии (in situ) получены изображения поверхности и показано, что пленки Ta обладают пористой плотноупакованной структурой, состоящей из отдельных наночастиц сферической формы. При помощи спектрометра на ближний и средний ИК диапазон излучения исследованы оптические свойства полученных пленок. Показано, что тонкие пленки (толщиной менее 100 нм) имеют резкую границу между областью пропускания излучения и областью поглощения и/или отражения, тогда как для более толстых пленок данный эффект постепенно исчезает с ростом толщины кластерной пленки и не зависит от размера нанокластеров. Обсуждается возможность применения полученных структур в составе термофотоэлектрогенераторов с целью повышения их КПД.