Publication:
ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ГАЗОВОЙ ПОРИСТОСТИ ПО ГЛУБИНЕ ОБРАЗЦОВ ВАНАДИЕВЫХ СПЛАВОВ МАЛОАКТИВИРУЕМЫХ КОМПОЗИЦИЙ ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ГЕЛИЯ И ВОДОРОДА

Файлы
стр. 67-68.pdf(653.33 KB)
Дата
2019
Авторы
КАЛИН, Б. А.
СТАЛЬЦОВ, М. С.
ЧЕРНОВ, И. И.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Выпуск журнала
Аннотация
В работе изучена микроструктура и особенности распределения газовых пузырьков по глубине образцов в ванадиевых сплавов с Cr, W, Ta и Zr после имплантации ионами Не+ с энергией 40 кэВ до флюенса 51020 м-2 при 650 ⁰С и имплантации Не+ в тех же условиях и дополнительном облучении ионами Н+ с энергией 25 кэВ до 51020 м-2 при 20 ⁰С. Изучение микроструктуры проводилось с помощью ПЭМ после препарирования образцов по методике фокусированного ионного пучка (ФИБ) перпендикулярно облученной поверхности.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
КАЛИН Б.А. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ГАЗОВОЙ ПОРИСТОСТИ ПО ГЛУБИНЕ ОБРАЗЦОВ ВАНАДИЕВЫХ СПЛАВОВ МАЛОАКТИВИРУЕМЫХ КОМПОЗИЦИЙ ПРИ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ГЕЛИЯ И ВОДОРОДА [Text.] / КАЛИН Б. А., СТАЛЬЦОВ М. С., ЧЕРНОВ И. И. //Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXII конференции. - 2019. - С. 67-68
URI
https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/30328
Коллекции
2019_ Конференция "Взаимодействие плазмы с поверхностью" (ХХII ; 23-24 января 2019 г. ; Москва).