Publication:
РАСПЫЛЕНИЕ И ФОРМИРОВАНИЕ ПОРИСТОГО СЛОЯ В ГРАФИТЕ ПРИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОМ ИОННОМ ОБЛУЧЕНИИ

Файлы
стр. 78-81.pdf(839.66 KB)
Дата
2021
Авторы
Пунтаков, Н. А.
Беграмбеков, Л. Б.
Долганов, Г. Д.
Грунин, А. В.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
The paper investigates the features of sputtering, formation and development of a nearsurface porous layer in fine-grained isotropic graphite depending on the irradiation current density, irradiation fluence, temperature and thickness of the irradiating sample. The samples were irradiated with accelerated ions of deuterium, hydrogen, and helium plasma. The influence of the growth of the porous layer on the rate of sputtering of the surface is discussed.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
РАСПЫЛЕНИЕ И ФОРМИРОВАНИЕ ПОРИСТОГО СЛОЯ В ГРАФИТЕ ПРИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОМ ИОННОМ ОБЛУЧЕНИИ [Text]. / Пунтаков Н.А. [et al.] // XXV Международная конференция Взаимодействие ионов с поверхностью «ВИП-2021»: труды конференции Том 1 . - 2021. - С. 78-81
URI
https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/16076
Коллекции
2021_Взаимодействие ионов с поверхностью (ВИП)