Publication: ВЛИЯНИЕ МЯГКОГО РЕНТГЕНОВСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА СВОЙСТВА ГРАНИЦ РАЗДЕЛА ПОВЕРХНОСТНЫЙ ДИЭЛЕКТРИК – АНТИМОНИД ИНДИЯ
Дата
2025
Авторы
СРЕДИН, В. Г.
ВОЙЦЕХОВСКИЙ, А. В.
МЕЛЕХОВ, А. П.
РАМАКОТИ, Р. Ш.
СТЕПАНЕНКО, А. А.
АНДРЕЙЧИКОВ, К. С.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Аннотация
Рассмотрены процессы, протекающие в структурах поверхностный окисел – антимонида индия под действием мягкого рентгеновского излучения. Показано, что облучение приводит к генерации радиационных дефектов на поверхности кристалла.
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Влияние мягкого рентгеновского излучения на свойства границ раздела поверхностный диэлектрик - антимонид Индия / Средин В. Г. [и др.] // Лазерные, плазменные исследования и технологии - ЛаПлаз-2025: сборник научных трудов XI Международной конференции. - 2025. - С. 204