Publication:
АНАЛИЗ НАКОПЛЕНИЯ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПОСЛЕ ЕГО ОБЛУЧЕНИЯ БЫСТРЫМИ ИОНАМИ И ДЕЙТЕРИЕВОЙ ПЛАЗМОЙ

dc.contributor.authorЕФИМОВ, В. С.
dc.contributor.authorГАСПАРЯН, Ю. М.
dc.contributor.authorПИСАРЕВ, А. А.
dc.contributor.authorХРИПУНОВ, Б, И.
dc.contributor.authorКОЙДАН, В. С.
dc.contributor.authorРЯЗАНОВ, А. И.
dc.contributor.authorПисарев, Александр Александрович
dc.contributor.authorЕфимов, Виталий Сергеевич
dc.contributor.authorГаспарян, Юрий Микаэлович
dc.date.accessioned2025-03-25T10:27:33Z
dc.date.available2025-03-25T10:27:33Z
dc.date.issued2016
dc.description.abstractВ работе представлены результаты исследования накопления дейтерия в вольфраме с высоким уровнем радиационного повреждения после его экспозиции в плазме.
dc.identifier.citationАНАЛИЗ НАКОПЛЕНИЯ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПОСЛЕ ЕГО ОБЛУЧЕНИЯ БЫСТРЫМИ ИОНАМИ И ДЕЙТЕРИЕВОЙ ПЛАЗМОЙ [Текст.] / ЕФИМОВ В.С. [и др.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XIX конференции. - 2016. - С. 70-73
dc.identifier.urihttps://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/36735
dc.publisherНИЯУ МИФИ
dc.subjectКонференции НИЯУ МИФИ
dc.titleАНАЛИЗ НАКОПЛЕНИЯ ДЕЙТЕРИЯ В ВОЛЬФРАМЕ ПОСЛЕ ЕГО ОБЛУЧЕНИЯ БЫСТРЫМИ ИОНАМИ И ДЕЙТЕРИЕВОЙ ПЛАЗМОЙ
dc.typeArticle
dspace.entity.typePublication
relation.isAuthorOfPublication50640711-2695-4229-87a1-08757c98fef2
relation.isAuthorOfPublicationaab0d99a-8361-4918-ba3a-3b41bc7fe752
relation.isAuthorOfPublication7c09c13b-5454-4e2d-960e-7785484ee06a
relation.isAuthorOfPublication.latestForDiscovery50640711-2695-4229-87a1-08757c98fef2
relation.isOrgUnitOfPublicationdcdb137c-0528-46a5-841b-780227a67cce
relation.isOrgUnitOfPublication.latestForDiscoverydcdb137c-0528-46a5-841b-780227a67cce
Файлы
Original bundle
Теперь показываю 1 - 1 из 1
Загружается...
Уменьшенное изображение
Name:
стр. 70-73.pdf
Size:
673.96 KB
Format:
Adobe Portable Document Format
Description:
License bundle
Теперь показываю 1 - 1 из 1
Загружается...
Уменьшенное изображение
Name:
license.txt
Size:
3.45 KB
Format:
Item-specific license agreed to upon submission
Description: