Publication:
ВЛИЯНИЕ ПРИМЕСИ ТАНТАЛА НА ЗАХВАТ ДЕЙТЕРИЯ ПРИ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОМ ПЛАЗМЕННОМ ОБЛУЧЕНИИ В СПЛАВЕ W-Ta

Дата
2022
Авторы
БОБЫРЬ, Н. П.
ЕФИМОВ, В. С.
ХРИПУНОВ, Б. И.
ЧЕРКЕЗ, Д. И.
КОЗЛОВ, Д. А.
ДУГИН, Д. С.
АНАНЬЕВ, С. С.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
В настоящее время вольфрам рассматривается как один из материалов, обращенных к плазме, для будущих термоядерных реакторов. В качестве материала, обращенного к плазме, W будет подвергаться интенсивным потокам дейтерия, трития, частиц гелия, а также нейтронов с энергией 14 МэВ от реакции D – T-синтеза. Облучение нейтронами вызовет изменение микроструктуры W за счет смещения в объеме и образования Re и Os [1]. Так же в данный момент рассматривается возможность введения легирующих примесей в вольфрам для повышения пластичности. Наличие примесей может влиять на удержание изотопов водорода в вольфраме. В предыдущем исследовании было показано уменьшение количества дейтерия с ростом концентрации примеси Та в монокристаллах W после газового воздействия [1].
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
ВЛИЯНИЕ ПРИМЕСИ ТАНТАЛА НА ЗАХВАТ ДЕЙТЕРИЯ ПРИ НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОМ ПЛАЗМЕННОМ ОБЛУЧЕНИИ В СПЛАВЕ W-Ta [Text]. / БОБЫРЬ Н.П. [et al.] // Взаимодействие плазмы с поверхностью: сборник научных трудов XXV конференции. - 2022. - С. 69