Publication: Влияние интерфейсных пленок Ni и Ti на антифрикционные свойства нанослоистых тонкопленочных покрытий WS2/G-C
Дата
2023
Авторы
Романов, Р. И.
Фоминский, Д. В.
Касьяненко, В. А.
Грицкевич, М. Д.
Фоминский, В. Ю.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Аннотация
Методом реакционного импульсного лазерного осаждения созданы модельные тонкопленочные покрытия, содержащие ламинарные пленки WS2 и пленки углерода нанометровой толщины. Для активирования роста графитоподобного состояния, пленки углерода (g-C) осаждались на поверхность пленок никеля или титана, формируемых между слоями WS2 и g-C.Обнаружена склонность покрытия WS2/Ni/g-C/WS2 к проявлению очень низкого коэффициента трения (менее 0.013) при испытаниях в сухом воздухе без смазки. Покрытие с титановой интерфейсной пленкой такими свойствами не обладало. Структурное состояние покрытия до и после трибоиспытания контролировалось методом микрорамановской спектроскопии (МРС). Выявлены возможные причины различного поведения покрытий с выбранными металлическими пленками-катализаторами.
Описание
Ключевые слова
аморфная структура , износ , коэффициент трения , тонкие пленки
Цитирование
Влияние интерфейсных пленок Ni и Ti на антифрикционные свойства нанослоистых тонкопленочных покрытий WS2/G-C [Text]. / Романов Р. И. [et al.] // Ядерная физика и инжиниринг. - 2023. - 14, 3. - С. 228-233