Персона: Цветков, Игорь Владимирович
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Статус
Фамилия
Имя
Имя
Результаты поиска
ВЛИЯНИЕ НАКЛОННОГО МАГНИТНОГО ПОЛЯ НА РАСПРЕДЕЛЕНИЕ ПОТЕНЦИАЛА ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ПОЛЯ ОКОЛО ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ
2014, БОРОДКИНА, И. Е., KOMM, М., ЦВЕТКОВ, И. В., Цветков, Игорь Владимирович
Для моделирования различных процессов взаимодействия плазмы с поверхностью, а также для анализа экспериментальных данных в присте-ночной области ТЯР существенным является корректное описание усло-вий в этой области.
РАСЧЕТ ДИНАМИКИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ В ПРИСТЕНОЧНОМ СЛОЕ И РАСПЫЛЕНИЯ ОБРАЩЕННЫХ К ПЛАЗМЕ ПОВЕРХНОСТЕЙ
2015, БОРОДКИНА. И. Е., ЦВЕТКОВ, И. В., Цветков, Игорь Владимирович
В рамках реализации международного проекта ITER в настоящее время большое внимание уделяется изучению процессов в пристеночной области плазмы, существенно влияющих как на время удержания плазмы, так и на параметры удерживаемой плазмы. Для моделирования динамики заряженных частиц, а также процессов захвата и отражения изотопов водорода, процессов распыления обращенных к плазме поверхностей (ОПЭ) необходимо корректное описание пристеночной области, в том числе распределения потенциала электрического поля.