Персона:
Степанова, Татьяна Владимировна

Profile Picture
Email Address
Birth Date
Научные группы
Логотип проекта
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Степанова
Имя
Татьяна Владимировна
Имя

Фильтры

2019 - 201912020 - 20231
2
Сброс фильтров

Настройки

Автор: Писарев, Александр Александрович × Имеет файлы: Yes ×

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 2 из 2
  • Уменьшенное изображение
    Публикация
    Открытый доступ
    Optical radiation from plasma of abnormal glow discharge in various gas mixtures
    (2019) Muller, T.; Misozhnikov, L.; Stepanova, T. V.; Borisyuk, Y. V.; Mozgrin, D. V.; Nenashev, P. S.; Norakidze, V. S.; Oreshnikova, N. M.; Pisarev, A. A.; Степанова, Татьяна Владимировна; Писарев, Александр Александрович
    © Published under licence by IOP Publishing Ltd.Optical radiation from plasma of abnormal glow discharge in Ar+N2, He+ N2 and N2+H2 was investigated. Lines of N2 N2 +, N, N+, Ar+, Ar, He, Fe, H, H2 and OH were detected by optical spectrometry. Discharge current and intensities of spectral lines of N2, N2 +, N, and N+ versus the concentration of Ar, He, and H2 in the gas mixtures were measured at various compositions of the working gas.
  • Уменьшенное изображение
    Публикация
    Открытый доступ
    СПОСОБ СОЗДАНИЯ ПРИЁМНОЙ ПЛАСТИНЫ ДИВЕРТОРА ТОКАМАКА
    (Частное учреждение по обеспечению научного развития атомной отрасли "Наука и инновации", 2023) Писарев, А. А.; Тарасюк, Г. М.; Степанова, Т. В.; Душик, В. В.; Шапоренков, А. А.; Степанова, Татьяна Владимировна; Тарасюк, Григорий Михайлович; Писарев, Александр Александрович
    Изобретение относится к области термоядерной техники и может быть использовано для создания приемной пластины дивертора токамака, основанного на концепции текущего слоя жидкого лития. В реакционной камере с прогреваемыми стенками размещают медную подложку, сначала в ней создают вакуум, а затем в неё подают водород со скоростью 3 л/ч до давления 5 мм рт. ст. с одновременным включением нагревателей стенок, нагревая таким образом подложку до температуры не менее 500°С и не более 0,8 от абсолютной температуры плавления меди. Подложку выдерживают при этой температуре не более 1 ч. После этого увеличивают скорость подачи водорода до 9 л/ч и вводят гексафторид вольфрама из сосуда, предварительного нагретого до температуры, не превышающей 50°С, со скоростью 3 л/ч таким образом, что общее давление газа в смеси остается постоянным и равным 5 мм рт. ст., а объёмное соотношение WF6:H2 равно 1:3. Таким образом наносят на подложку вольфрам путём разложения гексафторида вольфрама в течение не менее 3 ч. Толщина слоя вольфрама не менее 30 мкм и не более 0,5 мм. Далее подачу водорода и гексафторида вольфрама прекращают и создают в реакционной камере вакуум. Охлаждение проводят в среде водорода, для чего его снова напускают в реакционную камеру до давления не менее 200 мм рт. ст. Полученная приемная пластина дивертора токамака обладает улучшенными эксплуатационными характеристиками за счёт хорошей теплопроводности, стойкости к термоциклированию и коррозионной стойкости к литию, что обеспечивает улучшение срока её службы. 6 ил., 2 табл., 2 пр.