Персона: Степанова, Татьяна Владимировна
Загружается...
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Степанова
Имя
Татьяна Владимировна
Имя
5 results
Результаты поиска
Теперь показываю 1 - 5 из 5
- ПубликацияОткрытый доступPreparation of Alumina Thin Films by Reactive Modulated Pulsed Power Magnetron Sputtering with Millisecond Pulses(2024) Tumarkin, A. V.; Kolodko, D. V.; Kharkov, M. M.; Stepanova, T. V.; Kaziev, A. V.; Samotaev, N. N.; Oblov, K. Yu.; Тумаркин, Александр Владимирович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Харьков, Максим Михайлович; Степанова, Татьяна Владимировна; Казиев, Андрей Викторович; Самотаев, Николай Николаевич; Облов, Константин ЮрьевичThispaper aims to investigate the quality of thin alumina films deposited on glass samples using magnetron sputtering in the reactive modulated pulsed power mode (MPPMS) and evaluate the process productivity. The aluminum target was sputtered in Ar/O2 gas mixtures with different fractions of oxygen in the total gas flow, in the fixed pulsed voltage mode. The pulse-on duration was varied between 5 and 10 ms, while the pulse-off time was 100 or 200 ms. The dependences of mass deposition rate and discharge current on the oxygen flow were measured, and the specific deposition rate values were calculated. Prepared coatings had a thicknesses of 100ў??400 nm. Their quality was assessed by scratch testing and by measuring density, refractory index, and extinction coefficient for different power management strategies. The strong influence of pulse parameters on the coating properties was observed, resulting in a maximum density of 3.6 g/cm3 and a refractive index of 1.68 for deposition modes with higher duty cycle values. Therefore, adjusting the pulse-on and pulse-off periods in MPPMS can be used not only to optimize the deposition rate but also as a tool to tune the optical characteristics of the films. The performance of the studied deposition method was evaluated by comparing the specific growth rates of alumina coatings with the relevant data for other magnetron discharge modes. In MPPMS, a specific deposition rate of 200 nm/min/kW was obtained for highly transparent Al2O3, without using any dedicated feedback loop system for oxygen pressure stabilization, which makes MPPMS superior to short-pulse high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) modes.
- ПубликацияОткрытый доступУСТРОЙСТВО ДЛЯ ОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ПЛЕНОК(НИЯУ МИФИ, 2023) Сорокин, И. А.; Колодко, Д. В.; Степанова, Т. В.; Степанова, Татьяна Владимировна; Колодко, Добрыня ВячеславичИзобретение относится к вакуумно-плазменной технике, а именно к источникам атомов металлов преимущественно для осаждения тонких металлических пленок на металлические или диэлектрические подложки в вакуумной камере. Технический результат - повышение скорости нанесения покрытий и упрощение конструкции устройства. Устройство для нанесения металлических пленок содержит вакуумную камеру, полый катод, мишень, держатель подложки, источник питания разряда положительным полюсом, соединенный с анодом, а отрицательным полюсом с катодом, а также дополнительный источник напряжения смещения. Полый катод устройства состоит из двух параллельных друг другу плоских электродов, размещенных относительно друг друга на расстоянии от 10 до 40 мм, первый электрод выполнен с возможностью водоохлаждения, при этом на его поверхности установлена мишень из распыляемого материала. Напротив первого электрода параллельно поверхности с установленной мишенью из распыляемого материала размещен второй электрод, выполненный из тугоплавкого материала в виде прозрачной сетки с ячейкой размерами от 10 мкм до 5 мм, за которым параллельно ему размещен держатель подложек на расстоянии до 100 мм. Анодом служат стенки вакуумной камеры, а дополнительный источник напряжения смещения положительным полюсом соединен с отрицательным полюсом источника питания разряда, а отрицательным полюсом с первым электродом катода. 2 ил.
- ПубликацияТолько метаданныеDirect ion content measurements in a non-sputtering magnetron discharge(2019) Kaziev, A. V.; Kolodko, D. V.; Ageychenkov, D. G.; Tumarkin, A. V.; Kharkov, M. M.; Stepanova, T. V.; Казиев, Андрей Викторович; Колодко, Добрыня Вячеславич; Агейченков, Дмитрий Григорьевич; Тумаркин, Александр Владимирович; Харьков, Максим Михайлович; Степанова, Татьяна ВладимировнаIn present contribution we report the first direct measurements of ion fluxes in a nonsputtering magnetron discharge (NSMD) with Al cathode in Ar/O-2 mixtures. The diagnostic unit comprising three-electrode electrostatic lens ion extractor, magnetic sector mass-analyzer, and a vacuum electron multiplier was calibrated and then used to record the time-resolved ion counts of Al+ and Ar+ both in NSMD and arc regimes. The results clearly indicate that in NSMD the dominant species are Ar ions while Al ion signal is lower than the sensitivity limit due to noise level, in contrast to the arc discharge. The capabilities of the diagnostics setup and its sensitivity limits are discussed.
- ПубликацияТолько метаданныеEstimation of MoS2 Coating Performance on Bronze and Steel in Vacuum at High Temperatures(2022) Prozhega, M. V.; Reschikov, E. O.; Kharkov, M. M.; Rykunov, G. I.; Kaziev, A. V.; Kukushkina, M. S.; Kolodko, D. V.; Stepanova, T. V.; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Кукушкина, Маргарита Сергеевна; Колодко, Добрыня Вячеславич; Степанова, Татьяна Владимировна© 2022 by the authors. Licensee MDPI, Basel, Switzerland.We compared two modes of magnetron sputter deposition of MoS2 on substrates made of steel AISI 316L and bronze CuAl9NiFe4Mn1 with different initial roughness Ra 0.05–2.32 µm. The deposition was carried out at a bias voltage of −20 and +100 V, and the deposition rate of these modes differed by 30%. Measurements of the friction coefficient and lifetime tests were made in accordance with ASTM G133. Measurements of the friction coefficient and lifetime tests in vacuum at load 7H, temperature of samples 250◦C, and pressure in the chamber <10−6 Pa were carried out according to ASTM G133. The adhesive strength, the chemical composition of the coatings before and after tribological tests, the degree of crystallinity of the coatings, and the distance between the planes were evaluated. Mechanical and structural properties of coatings are discussed concerning the deposition mode parameters. The average coefficient of friction of the MoS2 coatings in steady-state friction did not exceed 0.051 for all samples. The influence of the sample pretreatment method on the growth of molybdenum disulfide crystals was revealed.
- ПубликацияОткрытый доступHigh temperature vacuum tests of MoS2coating(2023) Prozhega, M. V.; Rechikov, E. O.; Besshapov, P. P.; Babinets, I. S.; Kharkov, M. M.; Rykunov, G. I.; Kaziev, A. V.; Kukushkina, M. S.; Kolodko, D. V.; Stepanova, T. V.; Харьков, Максим Михайлович; Казиев, Андрей Викторович; Кукушкина, Маргарита Сергеевна; Колодко, Добрыня Вячеславич; Степанова, Татьяна ВладимировнаTribological parameters of samples of bronze substrates coated with MoS2 were investigated. The friction tests were carried out at load 7N, temperature of 250В°C in vacuum according to ASTM G133. Magnetron sputtering was used to deposit MoS2 coatings. A 100Cr6 steel ball was used as a counter-sample. Based on the results of the experiments, the values of the friction coefficient of the coatings and their comparative service lifetime were obtained. The results can be used in the manufacturing of devices operating in similar conditions.