Персона:
Кондратьев, Илья Евгеньевич

Загружается...
Profile Picture
Email Address
Birth Date
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Статус
Фамилия
Кондратьев
Имя
Илья Евгеньевич
Имя

Результаты поиска

Теперь показываю 1 - 1 из 1
  • Публикация
    Открытый доступ
    Особенности захвата водорода при облучении циркониевых сплавов электронами в различных газовых средах
    (2024) Евсин, А. Е.; Жданов, И. Д.; Кондратьев, И. Е.; Саввин, Н. О.; Беграмбеков, Л. Б.; Кондратьев, Илья Евгеньевич; Беграмбеков, Леон Богданович; Евсин, Арсений Евгеньевич; Саввин, Никита Олегович
    В работе исследуются закономерности захвата водорода под действием облучения циркониевых сплавов Э110 и Э635 потоком электронов (400 эВ, 0.8 мА/см2) в различных газовых средах, содержащих кислород и водород (Ar + O2 + H2; Ar + H2O). Изучается влияние температуры поверхности на характер наводороживания циркониевых сплавов при электронном облучении. Показано, что ни выдержка, ни облучение электронами в газовой среде, содержащей смесь H2 и O2, при 700 К в течение 20 ч не приводят к изменению уровня водорода в сплаве Э110, в то время как из сплава Э635 водород частично выходит в процессе эксперимента. Количество водорода в циркониевых сплавах после выдержки в газовой среде, содержащей H2O, в аналогичном температурно-временном режиме также меняется незначительно, однако, если в этих условиях облучать сплавы электронами, то в них становится в 1.5–2 раза больше водорода. При повышении температуры образцов до 900 К электронное облучение в присутствии паров воды, наоборот, снижает захват водорода в сплавы Э110 и Э635, по сравнению с выдержкой в той же газовой среде без облучения. Сделан вывод о том, что электронное облучение воздействует на баланс поверхностных реакций образования гидроксильных групп из адсорбированных молекул воды и обратных им реакций образования молекул воды из поверхностных гидроксилов. Направление смещения баланса этих реакций зависит от температуры поверхности.