Патенты

Постоянный URI для этой коллекции

https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/234

Обзор

Просмотр Патенты по Автор "Ахременков, Б. В."

Теперь показываю 1 - 1 из 1
  • Уменьшенное изображение
    Публикация
    Открытый доступ
    СВЧ-ПЛАЗМОТРОН И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ
    (2024) Берестенко, В. И.; Любушкина, Т. А.; Морозов, А. О.; Ахременков, Б. В.; Прокопенко, А. В.
    Изобретение относится к средствам генерирования плазмы СВЧ-разряда. Ввод СВЧ-энергии осуществляется в металлическую разрядную камеру через продольную вдоль оси камеры щель из присоединяемой к этой щели металлической трубы-волновода, располагаемой вдоль оси разрядной камеры. Через эту же щель вводится вращающийся вокруг оси разрядной камеры поток газа, закрученный внутри трубы-волновода. Для предотвращения образования зоны рециркуляции газа в осевой зоне внутри трубы-волновода располагают дополнительную металлическую трубу меньшего диаметра. Между трубой меньшего диаметра и внешней трубой-волноводом вводится вращающийся поток газа, далее по образованному таким образом коаксиальному волноводу вводится СВЧ-энергия на электромагнитной волне типа H11, которая возбуждается в коаксиальном волноводе, через окно во внешней трубе коаксиального волновода в зоне, удаленной от щели ввода, в разрядную камеру. Причем обеспечивается удаление герметизирующего диэлектрического окна ввода СВЧ-энергии в зону, недостижимую для продуктов реакции, из активной зоны СВЧ-разряда и теплового воздействия плазмы на окно, а также совмещение щели ввода СВЧ-энергии в разрядную камеру с вводом плазмообразующего или исходного рабочего газа. Техническим результатом является повышение надежности и долговечности устройства с возможностью проведения плазмохимических и тепловых (сфероидизация) процессов большой производительности при вводимой в СВЧ-разряд СВЧ-мощности 30 кВт и более при атмосферном давлении плазмообразующего газа. 2 н.п. ф-лы, 1 ил.