Publication:
ОСОБЕННОСТИ РАЗВИТИЯ ПОРИСТОГО СЛОЯ И РАСПЫЛЕНИЯ ГРАФИТА ПРИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОМ ИНТЕНСИВНОМ ОБЛУЧЕНИИ ИОНАМИ ГЕЛИЯ И ДЕЙТЕРИЯ

Дата
2023
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
НИЯУ МИФИ
Научные группы
Организационные подразделения
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
Выпуск журнала
Аннотация
The influence of the irradiation dose and surface temperature on the sputtering rate, the development of a near-surface porous layer, and the formation of a stream of sputtered atoms during high-temperature intense irradiation of graphite with helium and deuterium ions has been studied. It is shown that the features of these processes during irradiation with deuterium and helium ions are related to the specificity of the formation of structural defects in graphite by these ions.
Описание
Ключевые слова
Конференции НИЯУ МИФИ
Цитирование
Пунтаков Н.А. ОСОБЕННОСТИ РАЗВИТИЯ ПОРИСТОГО СЛОЯ И РАСПЫЛЕНИЯ ГРАФИТА ПРИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОМ ИНТЕНСИВНОМ ОБЛУЧЕНИИ ИОНАМИ ГЕЛИЯ И ДЕЙТЕРИЯ [Text]. / Пунтаков Н.А., Беграмбеков Л.Б., Захаров А.М. // Взаимодействие ионов с поверхностью «ВИП-2023»: труды XXVI Международной конференции Том 2 . - 2023. - С. 192-195