Publication:
Preparation of Silicon Oxide Films by a Hot-Target Impulse Magnetron Deposition in a Reactive Mixture

Дата
2023
Авторы
Lisenkov, V. Y.
Kharkov, M. M.
Kolodko, D. V.
Tumarkin, A. V.
Kaziev, A. V.
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Издатель
Научные группы
Организационные подразделения
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт лазерных и плазменных технологий
Стратегическая цель Института ЛаПлаз – стать ведущей научной школой и ядром развития инноваций по лазерным, плазменным, радиационным и ускорительным технологиям, с уникальными образовательными программами, востребованными на российском и мировом рынке образовательных услуг.
OrgUnit Logo
Организационная единица
Институт нанотехнологий в электронике, спинтронике и фотонике
Институт ИНТЭЛ занимается научной деятельностью и подготовкой специалистов в области исследования физических принципов, проектирования и разработки технологий создания компонентной базы электроники гражданского и специального назначения, а также построения современных приборов на её основе. ​Наша основная цель – это создание и развитие научно-образовательного центра мирового уровня в области наноструктурных материалов и устройств электроники, спинтроники, фотоники, а также создание эффективной инновационной среды в области СВЧ-электронной и радиационно-стойкой компонентной базы, источников ТГц излучения, ионно-кластерных технологий материалов.​
Выпуск журнала
Аннотация
Описание
Ключевые слова
Цитирование
Preparation of Silicon Oxide Films by a Hot-Target Impulse Magnetron Deposition in a Reactive Mixture / Lisenkov, V. Y. [et al.] // Journal of Communications Technology and Electronics. - 2023. - 68. - № 11. - P. 1321-1324. - 10.1134/S1064226923070070
URI
https://www.doi.org/10.1134/S1064226923070070
 https://www.scopus.com/record/display.uri?eid=2-s2.0-85181172805&origin=resultslist
 https://openrepository.mephi.ru/handle/123456789/29564
Коллекции
Публикации